Vetek Semiconductor Solid Silicon Carbide is een belangrijke keramische component in plasma -etsapparatuur, massief siliciumcarbide (CVD Silicon Carbide) Onderdelen in de etsapparatuur omvattenFocus ringen, Gasdouchekop, lade, randringen, enz. Vanwege de lage reactiviteit en geleidbaarheid van vast siliciumcarbide (CVD siliciumcarbide) tot chloor - en fluor -bevattende etsengassen, is het een ideaal materiaal voor plasma -etsende apparatuur focusringen en andere componenten.
De focusring is bijvoorbeeld een belangrijk onderdeel dat buiten de wafer wordt geplaatst en in direct contact met de wafel, door een spanning op de ring aan te brengen om het plasma door de ring te concentreren, waardoor het plasma op de wafer wordt gericht om de uniformiteit van de verwerking te verbeteren. De traditionele focusring is gemaakt van silicium ofkwarts, Geleidend silicium als een gemeenschappelijk focusringmateriaal, het ligt bijna dicht bij de geleidbaarheid van siliciumwafels, maar het tekort is een slechte etsweerstand in fluor-bevattend plasma, etsenmachines die vaak worden gebruikt voor een periode van tijd, er zal een ernstig corrosiefenomenon zijn, de productie van de productie van de productie ernstig verminderen.
SOlid sic focusringWerkprincipe：
Vergelijking van SI -gebaseerde focusring en CVD SIC Focussing Ring ：
|
Vergelijking van SI -gebaseerde focusring en CVD SIC Focussing Ring
|
|
Item
|
En
|
CVD SIC
|
|
Dichtheid (g/cm3)
|
2.33
|
3.21
|
|
Band Gap (EV)
|
1.12
|
2.3
|
|
Thermische geleidbaarheid (w/cm ℃ ℃)
|
1.5
|
5
|
|
CTE (x10-6/℃)
|
2.6
|
4
|
|
Elastische modulus (GPA)
|
150
|
440
|
|
Hardheid (GPA)
|
11.4
|
24.5
|
|
Weerstand tegen slijtage en corrosie
|
Arm
|
Uitstekend
|
Vetek Semiconductor biedt geavanceerde solid siliciumcarbide (CVD siliciumcarbide) onderdelen zoals SIC focusringen voor halfgeleiderapparatuur. Onze vaste siliciumcarbide-focusringen presteren beter dan het traditionele silicium in termen van mechanische sterkte, chemische resistentie, thermische geleidbaarheid, duurzaamheid met hoge temperatuur en ionenresistentie.
Belangrijke kenmerken van onze SIC -focusringen zijn onder meer:
Hoge dichtheid voor verlaagde etsen.
Uitstekende isolatie met een hoge bandgap.
Hoge thermische geleidbaarheid en lage coëfficiënt van thermische expansie.
Superieure mechanische impactweerstand en elasticiteit.
Hoge hardheid, slijtvastheid en corrosieweerstand.
Vervaardigd met behulp vanPlasma-verbeterde chemische dampafzetting (PECVD)Technieken, onze SIC -focusringen voldoen aan de toenemende eisen van etsprocessen in de productie van halfgeleiders. Ze zijn ontworpen om hoger plasmakracht en energie te weerstaan, met name inCapacitief gekoppeld plasma (CCP)systemen.
De SIC -focusringen van Vetek Semiconductor bieden uitzonderlijke prestaties en betrouwbaarheid in de productie van halfgeleiderapparaten. Kies onze SIC -componenten voor superieure kwaliteit en efficiëntie.
