Producten
Massieve SiC-ets focusring
  • Massieve SiC-ets focusringMassieve SiC-ets focusring
  • Massieve SiC-ets focusringMassieve SiC-ets focusring
  • Massieve SiC-ets focusringMassieve SiC-ets focusring

Massieve SiC-ets focusring

Solid SiC Etching Focusseringsring is een van de kerncomponenten van het waferetsproces, dat een rol speelt bij het fixeren van wafers, het focusseren van plasma en het verbeteren van de uniformiteit van waferetsen. Als toonaangevende fabrikant van SiC-focusringen in China beschikt VeTek Semiconductor over geavanceerde technologie en een volwassen proces, en produceert het Solid SiC-ets-focusring die volledig voldoet aan de behoeften van eindklanten volgens de eisen van de klant. We kijken uit naar uw aanvraag en worden elkaars langetermijnpartners.

Vetek Semiconductor heeft grote vooruitgang geboekt in CVD Solid SIC-technologie en is nu in staat om solide SIC-etsenring te produceren met wereldleidend niveau. Vetek Semiconductor's Solid SIC Etching Focussing Ring is een ultrahoge zuiverheid Siliciumcarbidemateriaalproduct gecreëerd door het proces van chemische dampafzetting.

Vaste SiC-etsfocusring wordt gebruikt in halfgeleiderproductieprocessen, met name in plasma-etssystemen. De SiC-focusring is een cruciaal onderdeel dat helpt bij het nauwkeurig en gecontroleerd etsen van siliciumcarbidewafels (SiC).


Tijdens het plasma-etsproces speelt de focusring meerdere rollen:

● Het plasma focusseren: De vaste SIC -ets focusring helpt het plasma rond de wafel vorm te geven en te concentreren, zodat het etsproces uniform en efficiënt optreedt. Het helpt het plasma te beperken tot het gewenste gebied, waardoor verdwaalde etsen of schade aan de omliggende regio's worden voorkomen.

●  Bescherming van de kamerwanden: De focusring fungeert als een barrière tussen het plasma en de kamerwanden, waardoor direct contact en potentiële schade worden voorkomen. SIC is zeer resistent tegen plasma -erosie en biedt uitstekende bescherming voor de kamerwanden.

●  TEmperature -controle: De sic focusring helpt bij het handhaven van een uniforme temperatuurverdeling over de wafer tijdens het etsproces. Het helpt de warmte af te voeren en voorkomt plaatselijke oververhitting of thermische gradiënten die de etsresultaten kunnen beïnvloeden.


Solid SiC Etching Focusing Ring in Plasma Etching Equipment


Voor focusringen wordt gekozen voor massief SiC vanwege de uitstekende thermische en chemische stabiliteit, hoge mechanische sterkte en weerstand tegen plasma-erosie. Deze eigenschappen maken SiC een geschikt materiaal voor de zware en veeleisende omstandigheden in plasma-etssystemen.


Het is vermeldenswaard dat het ontwerp en de specificaties van focusringen kunnen variëren, afhankelijk van het specifieke plasma-etssysteem en de procesvereisten. VeTek Semiconductor optimaliseert de vorm, afmetingen en oppervlaktekenmerken van focusringen om optimale etsprestaties en een lange levensduur te garanderen. Vast SiC wordt veel gebruikt voor waferdragers, susceptoren, dummywafels, geleidingsringen, onderdelen voor het etsproces, CVD-proces, enz.


Productparameter van de massieve SiC-etsfocusring


Fysische eigenschappen van vast SiC
Dikte 3.21 g/cm3
Elektriciteitsweerstand 102 Ω/cm
Buigsterkte 590 MPA (6000 kgf/cm2)
Young's Modulus 450 GPA (6000 kgf/mm2)
Vickers Hardheid 26 GPA (2650kgf/mm2)
CTE (RT-1000℃) 4.0 X10-6/K
Thermische geleidbaarheid (RT) 250 W/mk


Dealer halfgeleider


Veteksemi Solid SiC Etching Focusing Ring shops


Hottags: Solid SIC Etching Focussing Ring
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept