Thuis
Over ons
Over het bedrijf
Veelgestelde vragen
Producten
Tantaalcarbide coating
Sic single crystal groeiproces reserveonderdelen
SiC-epitaxieproces
UV-LED-ontvanger
Siliciumcarbide coating
Massief siliciumcarbide
Silicium epitaxie
Siliciumcarbide-epitaxie
MOCVD-technologie
RTA/RTP-proces
ICP/PSS-etsproces
Ander proces
ALD
Speciaal Grafiet
Pyrolytische koolstofcoating
Glasachtige koolstofcoating
Poreus grafiet
Isotropisch grafiet
Gesiliconiseerd grafiet
Grafietplaat met hoge zuiverheid
Koolstofvezel
C/C-composiet
Stijf vilt
Zacht vilt
Siliciumcarbide keramiek
SiC-poeder met hoge zuiverheid
Oxidatie- en diffusieoven
Andere halfgeleiderkeramiek
Halfgeleiderkwarts
Aluminiumoxide -keramiek
Siliciumnitride
Poreus SiC
Wafeltje
Oppervlaktebehandelingstechnologie
Technische dienst
Nieuws
Bedrijfsnieuws
Industrie nieuws
Downloaden
Downloaden
Onderzoek verzenden
Neem contact met ons op
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
Webmenu
Thuis
Over ons
Over het bedrijf
Veelgestelde vragen
Producten
Tantaalcarbide coating
Sic single crystal groeiproces reserveonderdelen
SiC-epitaxieproces
UV-LED-ontvanger
Siliciumcarbide coating
Massief siliciumcarbide
Silicium epitaxie
Siliciumcarbide-epitaxie
MOCVD-technologie
RTA/RTP-proces
ICP/PSS-etsproces
Ander proces
ALD
Speciaal Grafiet
Pyrolytische koolstofcoating
Glasachtige koolstofcoating
Poreus grafiet
Isotropisch grafiet
Gesiliconiseerd grafiet
Grafietplaat met hoge zuiverheid
Koolstofvezel
C/C-composiet
Stijf vilt
Zacht vilt
Siliciumcarbide keramiek
SiC-poeder met hoge zuiverheid
Oxidatie- en diffusieoven
Andere halfgeleiderkeramiek
Halfgeleiderkwarts
Aluminiumoxide -keramiek
Siliciumnitride
Poreus SiC
Wafeltje
Oppervlaktebehandelingstechnologie
Technische dienst
Nieuws
Bedrijfsnieuws
Industrie nieuws
Downloaden
Downloaden
Onderzoek verzenden
Neem contact met ons op
product zoeken
Taal
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
Verlaat het menu
Thuis
Downloaden
Downloaden
Voor meer details over productparameters en uitgebreidere technische begeleiding kunt u onze PDF raadplegen of rechtstreeks contact met ons opnemen.
Downloaden
Veiligheids-, gezondheids- en milieubeleid van VeTek Semiconductor
Vetek Halfgeleider
SiC-poeder met hoge zuiverheid
«
1
»
Nieuwsaanbevelingen
Hoe dun kan het Taiko -proces siliciumwafels maken?
Bekijk meer >>
Wat is hete geperste SIC -keramiek?
Bekijk meer >>
Tantalum carbide -technologie doorbraak, sic epitaxiale vervuiling verminderd met 75%?
Bekijk meer >>
Drie SiC-eenkristalgroeitechnologieën
Bekijk meer >>
Wat is het epitaxiale proces?
Bekijk meer >>
Wat is het verschil tussen siliciumcarbide- en tantaalcarbidecoatings?
Bekijk meer >>
WhatsApp
Tina
QQ
TradeManager
Skype
E-Mail
VeTek
VKontakte
WeChat
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
Reject
Accept