Siliciumnitride

1. Uitstekende chemische stabiliteit

Keramiek van siliciumnitride heeft een uitstekende chemische stabiliteit en kan een verscheidenheid aan sterke zuren, alkalis en corrosieve gassen weerstaan. In het productieproces van het halfgeleider moet vaak omgaan met corrosieve chemicaliën, kan siliciumnitride-keramiek een langdurige stabiele prestatiegarantie bieden.

2. Uitstekende mechanische eigenschappen

Keramiek van siliciumnitride heeft een hoge hardheid, uitstekende druksterkte en slijtvastheid, in staat om mechanische stress en oppervlakteverslijtage te weerstaan, niet gemakkelijk te vervormen of breuk. Deze mechanische eigenschap maakt het zeer geschikt als materiaal voor structurele en procesonderdelen in halfgeleiderapparatuur.

3. Stabiliteit op hoge temperatuur

Keramiek van siliciumnitride kan de stabiliteit in omgevingen op hoge temperatuur behouden, niet gemakkelijk te verzachten of te smelten, en kan de verwerking en hantering van hoge temperatuur in het productieproces van halfgeleiders weerstaan. Hierdoor kan het worden gebruikt bij de vervaardiging van belangrijke componenten van de hoge temperatuurprocesapparatuur, zoals grijpen, reactiekamercomponenten, enzovoort.

4. Uitstekende isolerende eigenschappen

Isolerende eigenschappen zijn van cruciaal belang bij de productie van halfgeleiderapparaten. Siliciumnitride -keramiek heeft goede isolerende eigenschappen, die circuitcomponenten effectief kunnen isoleren en beschermen tegen stroomlekkage of elektromagnetische interferentie, waardoor de stabiliteit en betrouwbaarheid van het apparaat wordt verbeterd.

5. Thermische geleidbaarheid en thermische geleidbaarheid

Keramiek van siliciumnitride heeft een hoge thermische geleidbaarheid, kan de door het apparaat gegenereerde warmte effectief uitvoeren en afleggen, waardoor de temperatuurstabiliteit van het apparaat in het werkproces wordt gehandhaafd. Dit is van cruciaal belang voor de krachtige werking van halfgeleiderapparaten.

1. Elektrostatische chucks en etsenkamercomponenten

Siliciumnitride -keramiek wordt vaak gebruikt als materialen voor elektrostatische klootzakken en etsenkamercomponenten in de productie van halfgeleiders vanwege hun uitstekende chemische stabiliteit en weerstand op hoge temperatuur. Elektrostatische klootzakken worden gebruikt om wafels of substraten te repareren en te stabiliseren, terwijl etskamercomponenten worden gebruikt om corrosieve gassen en omgevingen op hoge temperatuur te weerstaan.

2. Gasverdelingsplaten en reflectoren

Siliciumnitride -keramiek wordt ook gebruikt bij de productie van halfgeleiderapparatuur in de gasverdelingsplaten en reflectoren. Gasverdelingsplaten worden gebruikt om reactieve of beschermende gassen uniform in de reactiekamer te verdelen, terwijl reflectoren worden gebruikt om de verdeling en reflectie van licht in de reactiekamer te optimaliseren om de reactie -efficiëntie en uniformiteit te verbeteren.

3. houders en thermische componenten

Siliciumnitride -keramiek wordt vaak gebruikt als houders en thermische beheercomponenten in de productieapparatuur van halfgeleiders. Deze componenten moeten een goede mechanische sterkte, slijtvastheid en thermische geleidbaarheid hebben om de werking van stabiele apparatuur en de nauwkeurigheid van het apparaatverwerking te garanderen.

4. Chemische mechanische polijst (CMP) pads

Keramiek van siliciumnitride wordt veel gebruikt als een PAD -materiaal in het chemische mechanische polijstproces (CMP) -proces. Het heeft een uitstekende vlakheid en slijtvastheid en kan stabiele ondersteuning bieden tijdens het polijstproces om de vlakheid en precisie van het halfgeleideroppervlak te waarborgen.