Siliciumnitride

VeTek Semiconductor richt zich op de productie van siliciumnitride en heeft een onderzoeks- en ontwikkelingsteam bestaande uit senior experts en technische toptalenten. Siliciumnitride-keramiek heeft de voordelen van hardheid, hittebestendigheid, slijtvastheid en corrosieweerstand van algemene keramische materialen, en heeft de voordelen van goede thermische schokbestendigheid, kruipweerstand bij hoge temperaturen, goede zelfsmering en goede chemische stabiliteit, en wordt op grote schaal gebruikt gebruikt in nieuwe energie, chemische industrie, ruimtevaart en halfgeleidervelden.

De siliciumnitridematerialen van VeTek Semiconductor hebben de volgende prominente voordelen:

1. Uitstekende chemische stabiliteit

Siliciumnitride-keramiek heeft een uitstekende chemische stabiliteit en is bestand tegen een verscheidenheid aan sterke zuren, logen en corrosieve gassen. In het productieproces van halfgeleiders moet vaak worden gewerkt met corrosieve chemicaliën. Siliciumnitride-keramiek kan een stabiele prestatiegarantie op de lange termijn bieden.

2. Uitstekende mechanische eigenschappen

Siliciumnitride-keramiek heeft een hoge hardheid, uitstekende druksterkte en slijtvastheid, is bestand tegen mechanische spanning en oppervlakteslijtage en is niet gemakkelijk te vervormen of te scheuren. Deze mechanische eigenschap maakt het zeer geschikt als materiaal voor structurele en procesonderdelen in halfgeleiderapparatuur.

3. Stabiliteit bij hoge temperaturen

Siliciumnitride-keramiek kan de stabiliteit behouden in omgevingen met hoge temperaturen, is niet gemakkelijk te verzachten of te smelten, en is bestand tegen verwerking en hantering bij hoge temperaturen in het productieproces van halfgeleiders. Hierdoor kan het worden gebruikt bij de vervaardiging van belangrijke componenten van procesapparatuur voor hoge temperaturen, zoals grijpers, reactiekamercomponenten enzovoort.

4. Uitstekende isolerende eigenschappen

Isolerende eigenschappen zijn van cruciaal belang bij de productie van halfgeleiderapparaten. Siliciumnitride-keramiek heeft goede isolerende eigenschappen, die circuitcomponenten effectief kunnen isoleren en beschermen tegen stroomlekken of elektromagnetische interferentie, waardoor de stabiliteit en betrouwbaarheid van het apparaat worden verbeterd.

5. Thermische geleidbaarheid en thermische geleidbaarheid

Siliciumnitride-keramiek heeft een hoge thermische geleidbaarheid en kan de door het apparaat gegenereerde warmte effectief geleiden en afvoeren, waardoor de temperatuurstabiliteit van het apparaat tijdens het bedrijfsproces wordt gehandhaafd. Dit is van cruciaal belang voor de hoogwaardige werking van halfgeleiderapparaten.

De toepassingen van de siliciumnitridematerialen van VeTek Semiconductor in de zonne-energie- en halfgeleiderindustrie omvatten voornamelijk:

1. Elektrostatische klauwplaten en etskamercomponenten

Siliciumnitride-keramiek wordt vaak gebruikt als materiaal voor elektrostatische klauwplaten en etskamercomponenten bij de productie van halfgeleiders vanwege hun uitstekende chemische stabiliteit en hoge temperatuurbestendigheid. Elektrostatische klauwplaten worden gebruikt om wafers of substraten te fixeren en te stabiliseren, terwijl etskamercomponenten worden gebruikt om corrosieve gassen en omgevingen met hoge temperaturen te weerstaan.

2. gasverdeelplaten en reflectoren

Siliciumnitride-keramiek wordt ook gebruikt bij de vervaardiging van halfgeleiderapparatuur in de gasverdeelplaten en reflectoren. Gasverdeelplaten worden gebruikt om reactieve of beschermende gassen gelijkmatig in de reactiekamer te verdelen, terwijl reflectoren worden gebruikt om de verdeling en reflectie van licht in de reactiekamer te optimaliseren om de reactie-efficiëntie en uniformiteit te verbeteren.

3. Houders en thermische componenten

Siliciumnitride-keramiek wordt vaak gebruikt als houders en componenten voor thermisch beheer in apparatuur voor de productie van halfgeleiders. Deze componenten moeten een goede mechanische sterkte, slijtvastheid en thermische geleidbaarheid hebben om een ​​stabiele werking van de apparatuur en de nauwkeurigheid van de verwerking van apparaten te garanderen.

4. Chemisch-mechanische polijstpads (CMP).

Siliciumnitride-keramiek wordt veel gebruikt als kussenmateriaal bij het chemisch mechanisch polijsten (CMP). Het heeft een uitstekende vlakheid en slijtvastheid en kan een stabiele ondersteuning bieden tijdens het polijstproces om de vlakheid en precisie van het halfgeleiderwafeloppervlak te garanderen.