RTA/RTP-proces

VeTek Semiconductor biedt RTA/RTP-proceswafeldrager, gemaakt van zeer zuiver grafiet en SiC-coating metonzuiverheid onder 5 ppm.

Snelle gloeioven is een soort apparatuur voor materiaalgloeibehandeling enRTA/RTP-procesDoor het verwarmings- en koelproces van het materiaal te regelen, kan het de kristallijne structuur van het materiaal verbeteren, de interne spanning verminderen en de mechanische en fysieke eigenschappen van het materiaal verbeteren. Een van de kerncomponenten in de kamer van de snelgloeioven is de waferdrager/wafel ontvangervoor het laden van wafels. Als wafelverwarmer in de proceskamer, ditdraagplaatspeelt een belangrijke rol bij de snelle verwarmings- en temperatuuregalisatiebehandeling.

Siliciumcarbide, aluminiumnitride en grafiet-siliciumcarbide zijn beschikbare materialen voor de snelgloeioven, en de belangrijkste keuze op de markt is grafiet encoating van siliciumcarbide als materialen. 

De volgende zijnde functies en uitstekende prestatiesvan VeTek Semiconductor SiC-gecoate RTA RTP-proceswaferdrager:

-Stabiliteit op hoge temperatuur: De SiC-coating vertoont een uitstekende stabiliteit bij hoge temperaturen, waardoor de integriteit van de structuur en de mechanische sterkte zelfs bij extreme temperaturen worden gewaarborgd. Deze mogelijkheid maakt het zeer geschikt voor veeleisende warmtebehandelingsprocessen.

-Uitstekende thermische geleidbaarheid: De SiC-coatinglaag beschikt over een uitzonderlijke thermische geleidbaarheid, waardoor een snelle en uniforme warmteverdeling mogelijk is. Dit vertaalt zich in een snellere warmteverwerking, waardoor de verwarmingstijd aanzienlijk wordt verkort en de algehele productiviteit wordt verhoogd. Door de efficiëntie van de warmteoverdracht te verbeteren, draagt ​​het bij aan een hogere productie-efficiëntie en een superieure productkwaliteit.

-Chemische inertie: De inherente chemische inertie van siliciumcarbide biedt uitstekende weerstand tegen corrosie door verschillende chemicaliën. Onze met koolstof gecoate siliciumcarbide waferdrager kan betrouwbaar werken in diverse chemische omgevingen zonder de wafers te vervuilen of te beschadigen.

-Oppervlakte vlakheid: De CVD-siliciumcarbidelaag zorgt voor een zeer vlak en glad oppervlak, waardoor een stabiel contact met de wafers tijdens de thermische verwerking wordt gegarandeerd. Dit elimineert de introductie van extra oppervlaktedefecten en zorgt voor optimale verwerkingsresultaten.

-Lichtgewicht en hoge sterkte: Onze SiC-gecoate RTP-wafeldrager is licht van gewicht en toch opmerkelijk sterk. Deze eigenschap vergemakkelijkt het gemakkelijk en betrouwbaar laden en lossen van wafers.

Hoe RTA RTP Process waferdrager te gebruiken:

Waferontvanger en ontvangerdeksel met SiC-coating van VeTek Semiconductor

RTA RTP-ontvanger RTA RTP-wafeldrager RTP-lade (voor RTA snelle verwarmingsbehandeling) RTP-lade (voor RTA snelle verwarmingsbehandeling) RTP-ontvanger RTP Wafer-ondersteuningslade