CVD siliciumcarbide (SiC) gecoate RTP-susceptor

Functies

• Therma Uniformiteit – De hoge thermische eigenschappen van het materiaal diffusiviteit maakt een snelle, ruimtelijk uniforme warmteoverdracht mogelijk, waardoor herhaalbare wafertemperatuurprofielen worden ondersteund.
• Hoog zuiverheidsniveau – De CVD SiC-coating bereikt een zuiverheid van 99,99995%, waardoor de risico’s van mobiele ionen- en metaalverontreiniging in kritische processtappen effectief worden verminderd.
• Chemische duurzaamheid – De coating vertoont een sterke weerstand tegen corrosieve stoffen, waaronder gassen op halogeenbasis, bij hogere temperaturen.l Langere onderhoudsintervallen – Verbeterde oxidatie- en slijtvastheid vertalen zich in minder vervangingen en minder uitvaltijd van gereedschappen.
• Ontwerpflexibiliteit – Afmetingen en configuraties kunnen worden aangepast aan specifieke RTP-kamergeometrieën en wafelafmetingen.

Toepassingen

• Snelle thermische verwerking (RTP)
• Snel thermisch gloeien (RTA)
• Activering van doteermiddelen Oxidatie- en uitgloeistappen
• Productie van geïntegreerde schakelingen (IC).
• Fabricage van elektrische apparatenTechnisch
  
  

Specificaties

Waarom kiezen voor VeTek Semiconductor?

• Intern CVD SiC-coatingproces speciaal ontwikkeld voor vereisten op het gebied van halfgeleiders.
• Geïntegreerde mogelijkheden voor grafietzuivering, precisiebewerking en controle van de laagdikte.
• Bewezen coatinghechting en laaguniformiteit bij batchproductie.
• Technische ondersteuning voor aangepaste susceptorontwerpen die compatibel zijn met de belangrijkste RTP-toolplatforms.
• Strenge materiaalinspectie, monitoring tijdens het proces en eindkwalificatietests zorgen voor consistentie tussen batches.