Tantalum carbide -technologie doorbraak, sic epitaxiale vervuiling verminderd met 75%?

Onlangs heeft het Duitse onderzoeksinstituut Fraunhofer IISB een doorbraak gebracht in het onderzoek en de ontwikkeling vanTantalum carbide coatingtechnologieen ontwikkelde een spuitcoatingoplossing die flexibeler en milieuvriendelijker is dan de CVD -depositieoplossing en is gecommercialiseerd.

En binnenlandse Vetek Semiconductor heeft ook doorbraken gemaakt op dit gebied, zie hieronder voor meer informatie.

Fraunhofer iisb:

Een nieuwe TAC -coatingtechnologie ontwikkelen

Op 5 maart, volgens de media "Samengestelde halfgeleider", Fraunhofer IISB heeft een nieuw ontwikkeldTantalum carbide (TAC) coatingtechnologie-Taccotta. De technologielicentie is overgedragen naar Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG) en NKCG is begonnen met het verstrekken van TAC-gecoate grafietonderdelen voor hun klanten.

De traditionele methode voor het produceren van TAC -coatings in de industrie is chemische dampafzetting (CVD), die geconfronteerd worden met nadelen zoals hoge productiekosten en lange levertijden. Bovendien is de CVD -methode ook vatbaar voor het kraken van TAC tijdens herhaalde verwarming en koeling van componenten. Deze scheuren blootstellen het onderliggende grafiet, dat in de loop van de tijd ernstig afbreekt en moet worden vervangen.

De innovatie van taccotta is dat het een spuitcoatingmethode op waterbasis gebruikt, gevolgd door temperatuurbehandeling om een ​​TAC-coating te vormen met hoge mechanische stabiliteit en verstelbare dikte op degrafiet -substraat. De dikte van de coating kan worden aangepast van 20 micron tot 200 micron om aan verschillende toepassingsvereisten te voldoen.

De TAC -procestechnologie ontwikkeld door Fraunhofer IISB kan de vereiste coatingeigenschappen, zoals dikte, aanpassen, zoals hieronder weergegeven in het bereik van 35 μm tot 110 μm.

In het bijzonder heeft Taccotta Spray Coating ook de volgende belangrijke kenmerken en voordelen:

● Meer milieuvriendelijker: met spuitcoating op waterbasis is deze methode milieuvriendelijker en gemakkelijker te industrialiseren;

● Flexibiliteit: Taccotta -technologie kan zich aanpassen aan componenten van verschillende maten en geometrieën, waardoor gedeeltelijke coating en component -renovatie mogelijk is, wat niet mogelijk is in CVD.

● Verminderde tantalumvervuiling: grafietcomponenten met taccotta -coating worden gebruikt in SiC -epitaxiale productie en tantalumvervuiling wordt verminderd met 75% vergeleken met bestaandeCVD -coatings.

● Draagweerstand: krastests tonen aan dat het verhogen van de coatingdikte de slijtvastheid aanzienlijk kan verbeteren.

Krastest

Het is gemeld dat de technologie is gepromoot voor commercialisering door NKCG, een joint venture gericht op het leveren van krachtige grafietmaterialen en aanverwante producten. NKCG zal ook lang in de toekomst deelnemen aan de ontwikkeling van taccotta -technologie. Het bedrijf is begonnen met het verstrekken van grafietcomponenten op basis van taccotta -technologie aan hun klanten.

Vetek Semiconductor bevordert de lokalisatie van TAC

Begin 2023 lanceerde Vetek Semiconductor een nieuwe generatie vanSIC Crystal GrowingThermisch veldmateriaal-poreuze tantalum carbide.

Volgens rapporten heeft Vetek Semiconductor een doorbraak gelanceerd in de ontwikkeling vanporeuze tantalum carbidemet grote porositeit door onafhankelijke technologieonderzoek en -ontwikkeling. De porositeit kan tot 75%bereiken en internationaal leiderschap bereiken.