Producten
Siliciumcarbide scherpstelring
  • Siliciumcarbide scherpstelringSiliciumcarbide scherpstelring

Siliciumcarbide scherpstelring

Veteksemicon focusring is speciaal ontworpen voor veeleisende halfgeleideretsapparatuur, met name SiC-etstoepassingen. Gemonteerd rond de elektrostatische klem (ESC), dicht bij de wafer, heeft de primaire functie het optimaliseren van de elektromagnetische veldverdeling binnen de reactiekamer, waardoor een uniforme en gerichte plasmaactie over het gehele waferoppervlak wordt gegarandeerd. Een hoogwaardige focusring verbetert de uniformiteit van de etssnelheid aanzienlijk en vermindert randeffecten, waardoor de productopbrengst en productie-efficiëntie direct worden verhoogd.

Algemene productinformatie

Plaats van herkomst:
China
Merknaam:
Mijn rivaal
Modelnummer:
SiC Focusring-01
Certificering:
ISO9001


Zakelijke voorwaarden voor producten

Minimale bestelhoeveelheid:
Onder voorbehoud van onderhandeling
Prijs:
Neem contact op voor een offerte op maat
Verpakkingsdetails:
Standaard exportpakket
Levertijd:
Levertijd: 30-45 dagen na orderbevestiging
Betalingsvoorwaarden:
T/T
Leveringscapaciteit:
500 eenheden/maand


Sollicitatie: Bij droge etsprocessen van halfgeleiders is de focusring een belangrijk onderdeel dat procesuniformiteit garandeert. Het omringt de wafer strak en bepaalt, door de plasmaverdeling aan de randen van de wafer nauwkeurig te controleren, direct de uniformiteit en consistentie van het etsproces, waardoor het een onmisbaar onderdeel wordt van het garanderen van de chipopbrengst.


Diensten die kunnen worden geleverd: analyse van klanttoepassingsscenario's, bijpassende materialen, technische probleemoplossing.


Bedrijfsprofiel: Veteksemicon heeft 2 laboratoria, een team van experts met 20 jaar materiaalervaring, met R&D- en productie-, test- en verificatiemogelijkheden.


Technische parameters

project
parameter
Belangrijkste materialen
Gesinterd SiC met hoge zuiverheid
Optionele materialen
Gecoat SiC kan worden aangepast aan de eisen van de klant
Toepasbare processen
SiC-etsen, Si diepe ets, andere samengestelde halfgeleiderets
Toepasselijke apparaten
Van toepassing op reguliere platforms voor droogetsapparatuur (specifieke modellen kunnen worden aangepast)
Belangrijkste afmetingen
Aangepast volgens het apparatuurmodel en de tekeningvereisten van de klant
Oppervlakteruwheid
Ra ≤ 0,2 μm (kan worden aangepast aan de procesvereisten)
Belangrijkste kenmerken
Hoge corrosieweerstand, hoge zuiverheid, hoge hardheid, uitstekende thermische stabiliteit en lage deeltjesvorming


Mijn rivaal scherpstelring kernvoordelen


1. Uitzonderlijke materiaalwetenschap, geboren voor zware omstandigheden


Ons geselecteerde siliciumcarbidemateriaal met hoge zuiverheid en hoge dichtheid is gemakkelijk bestand tegen het intense plasmabombardement en fluorhoudende chemische gascorrosie tijdens het SiC-etsproces. De uitstekende corrosieweerstand vertaalt zich direct in een langere levensduur en een lagere vervangingsfrequentie van componenten, waardoor niet alleen de uitvaltijd van apparatuur wordt verminderd, maar ook het risico op deeltjesverontreiniging veroorzaakt door slijtage van componenten aanzienlijk wordt verminderd, waardoor u een langdurige en stabiele, uitgebreide kosteneffectiviteit krijgt.


2. Nauwkeurig technisch ontwerp zorgt voor een consistent proces


Elke Veteksemicon focusring ondergaat ultraprecieze CNC-bewerking om ervoor te zorgen dat belangrijke afmetingen zoals vlakheid, binnendiameter en staphoogte een nauwkeurigheid op micronniveau bereiken, waardoor een perfecte afstemming met de originele apparatuurfabrikant (OEM) wordt gegarandeerd. Ons engineeringteam optimaliseert het profiel verder met behulp van plasmasimulatie. Dit ontwerp geleidt effectief het elektrische veld, waardoor abnormaal etsen aan de randen van de wafel wordt verminderd en zo de etsuniformiteit van de gehele wafel tot een extreem niveau wordt geregeld.


3. Betrouwbare prestaties verbeteren de productie-efficiëntie


In veeleisende massaproductieomgevingen wordt de volledige waarde van onze producten gerealiseerd. Door een geconcentreerde en stabiele plasmaverdeling te garanderen, draagt ​​de Veteksemicon-focusring direct bij aan een verbeterde uniformiteit van de etssnelheid en een geoptimaliseerde herhaalbaarheid van batch-tot-batch-processen. Dit betekent dat uw productielijn consistent producten met een hoog rendement kan leveren, terwijl u ook profiteert van langere onderhoudscycli, waardoor de verbruikskosten per wafer effectief worden verlaagd en u een aanzienlijk concurrentievoordeel krijgt.


4. Aantekening ecologische ketenverificatie


De ecologische ketenverificatie van Veteksemicon focusring omvat grondstoffen tot aan de productie, is geslaagd voor de internationale standaardcertificering en beschikt over een aantal gepatenteerde technologieën om de betrouwbaarheid en duurzaamheid ervan op het gebied van halfgeleiders en nieuwe energie te garanderen.


Voor gedetailleerde technische specificaties, whitepapers of voorbeeldtestregelingen kunt u contact opnemen met ons technische ondersteuningsteam om te onderzoeken hoe Veteksemicon uw procesefficiëntie kan verbeteren.


Belangrijkste toepassingsgebieden

Toepassing richting
Typisch scenario
Productie van SiC-vermogensapparaten
Poort- en mesa-etsen van MOSFET, SBD, IGBT en andere apparaten.
GaN-op-SiC RF-apparaten
Etsproces voor hoogfrequente radiofrequentieapparaten met hoog vermogen.
MEMS-apparaat diepe ets
Micro-elektromechanische systeemverwerking die extreem hoge eisen stelt aan de etsmorfologie en uniformiteit.


Mijn rivaal-productenwinkel

Veteksemicon products shop


Hottags: Siliciumcarbide scherpstelring
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept