CVD Siliciumcarbide (SiC) gecoate grafiet douchekop

Belangrijkste kenmerken

• Ultrahoge zuiverheid – De SiC-coating sluit het grafiet volledig af, dus geen ontgassing of metaalverontreiniging.

• Uitstekende gasverdeling – Elke douchekop is machinaal bewerkt om een ​​consistente gassnelheid over de hele wafel te leveren.

• Superieure corrosieweerstand – CVD SiC reageert niet met halogenen of procesresiduen. Het gaat veel langer mee dan kaal grafiet of kwarts.

• Uitstekende thermische prestaties – De coating komt nauw overeen met de thermische uitzetting van grafiet, zodat er geen barsten ontstaan ​​bij snelle temperatuurstijgingen.

• Precisieproductie – We gebruiken CNC-bewerking en interne CVD-coating. Gatdiameters en patronen worden binnen nauwe toleranties gehouden.

Technische specificaties

Toepassingen

Deze douchekoppen worden gebruikt in:

• Halfgeleider CVD-systemen (zowel productie als R&D)

• PECVD-apparatuur – diëlektrica bij lage temperatuur

• MOCVD-reactoren – III-V-verbindingen zoals GaN, InP

• Siliciumepitaxie (Si Epi) – voor voedingsapparaten en CMOS

• SiC-epitaxie – hoogspanningsvermogenselektronica

• Samengestelde halfgeleiderfabrieken

• Geavanceerde verpakking (bijv. TSV-voeringdepositie)

• Elk dunfilmgereedschap dat een corrosiebestendige, zeer zuivere gasverdeler nodig heeft

Waarom kiezen voor VETEK?

• Wij zijn geen handelsbedrijf. Alles – van de grafietbewerking tot de uiteindelijke CVD SiC-coating – gebeurt in eigen huis. Dat betekent dat we de kwaliteit, doorlooptijd en kosten beheersen.

• Volledige interne productie – geen verrassingen bij outsourcing

• Geavanceerde coatingtechnologie – dichte, gaatjesvrije CVD SiC

• Technische ondersteuning op maat – stuur ons uw douchekoptekening of alleen het reactormodel

• Betrouwbare toeleveringsketen voor halfgeleiders – we leveren al jaren aan fabrieken en OEM's

• U hoeft een nieuw ontwerp niet elke keer opnieuw te kwalificeren. We hebben al douchekoppen gecoat voor veel gangbare platforms (AMAT, TEL, LAM, ASM, etc.).