Producten

Als u ooit te maken heeft gehad met een ongelijkmatige gasstroom of deeltjesverontreiniging in een depositiekamer, dan is de VETEK CVD SiC gecoate grafietdouchekop ontworpen om dat op te lossen. Het begint met zeer zuiver isostatisch grafiet voor thermische stabiliteit en gemakkelijke bewerking, en krijgt vervolgens een dichte CVD-siliciumcarbide (SiC)-coating die het oppervlak afdicht, corrosieve gassen (zoals HCl of NF₃) weerstaat en uitgassing voorkomt. Het resultaat is een gasverdeelplaat die een uniforme stroom over de wafer levert, epitaxie bij hoge temperaturen aankan en veel langer meegaat dan kaal grafiet of kwarts – waardoor het een vertrouwd onderdeel is voor CVD-, PECVD-, MOCVD-, siliciumepitaxie- en SiC-epitaxieprocessen. We bieden ook gatenpatronen en -formaten op maat, omdat geen twee reactoren precies hetzelfde zijn.

VeTek Semiconductor High Purity Silicon Carbide (SiC) Powder is speciaal ontwikkeld voor SiC-kristalgroei, halfgeleidermaterialen en geavanceerde keramische toepassingen. Door geavanceerde zuiveringstechnologie en strikte kwaliteitscontrole biedt ons SiC-poeder ultralage onzuiverheidsniveaus, stabiele deeltjesverdeling en uitstekende consistentie voor veeleisende productieprocessen.

In SiC PVT-kristalgroeiopstellingen worden grafietonderdelen gedurende lange perioden bij zeer hoge temperaturen gebruikt. De PyC-gecoate grafietring van VeTek is gebouwd voor dat soort taken. Via CVD wordt een pyrolytische koolstoflaag op hoogzuiver grafiet afgezet. Dit geeft het onderdeel een betere oppervlaktestabiliteit en er komen minder deeltjes vrij tijdens bedrijf. Je plaatst het meestal in het thermische veld om de dampstroom te helpen beheersen en hoe de warmte zich in de oven verspreidt. De coating vertraagt ​​ook de sublimatie van grafiet als de temperatuur boven de 2200°C komt, waardoor het hele onderdeel langer meegaat.

De Solid SiC Focus Ring is ontworpen om de trackingzone van de wafer te omringen en zorgt voor een lineaire plasmaverdeling en exacte etsprofielen van rand tot midden. Deze premium β-SiC-componenten zijn gebouwd door Vetek Semiconductor (Wuyi Tianyao New Material Technology Co., LTD) met behulp van eigen Chemical Vapor Deposition (CVD)-technologie. Door grondstoffen te verdampen in een dichte matrix zonder bindmiddel, elimineert Vetek de poreuze micro-openingen die vaak voorkomen in oudere materialen. Vergeleken met standaard kwarts- of siliciumafscherming zijn onze CVD SiC-componenten veel beter bestand tegen corrosieve halogeengassen, waardoor de wafer wordt afgeschermd in diepe sub-7 nm logica en compacte geheugenchipproductie. Ik kijk uit naar uw verdere aanvraag.

Deze AMAT 0200-03201 Wafer Lift Pin van VeTek begint met zeer zuiver grafiet, daarna voegen we er een dichte CVD SiC-coating aan toe. Het is gemaakt voor epitaxiesystemen van 300 mm en EPI-reactoren van Applied Materials. Waarom grafiet en SiC? Grafiet kan heel goed met warmte omgaan. De SiC-laag neemt corrosieve gassen op en slijt niet snel. Het dunne wandontwerp? Dat zorgt voor schoner tillen en positioneren van de wafer, minder deeltjes en een langere levensduur van de onderdelen bij hoge temperaturen. We maken ook soortgelijke SiC-gecoate grafietonderdelen voor ASM-, Aixtron- en LPE-systemen. Ik kijk uit naar uw aanvraag.

Vetek Semiconductor maakt waferdragers voor VEECO MOCVD-systemen, speciaal gebouwd voor LED-epitaxiewerk zoals GaN-LED's, blauwgroene LED's en diepe UV-LED-groei. Deze dragers beginnen met zeer zuiver grafiet en krijgen een dichte CVD-siliciumcarbide (SiC) coating. Die combinatie houdt goed stand onder de hoge temperaturen die je ziet in MOCVD – goede thermische stabiliteit, corrosieweerstand en de coating gaat lang mee.