Producten
Grote SiC-kristalgroeioven met weerstandsverwarming
  • Grote SiC-kristalgroeioven met weerstandsverwarmingGrote SiC-kristalgroeioven met weerstandsverwarming

Grote SiC-kristalgroeioven met weerstandsverwarming

De kristalgroei van siliciumcarbide is een kernproces bij de productie van hoogwaardige halfgeleiderapparaten. De stabiliteit, precisie en compatibiliteit van kristalgroeiapparatuur bepalen rechtstreeks de kwaliteit en opbrengst van siliciumcarbide-ingots. Gebaseerd op de kenmerken van Physical Vapor Transport (PVT)-technologie heeft Veteksemi een weerstandsverwarmingsoven ontwikkeld voor de groei van siliciumcarbidekristallen, waardoor een stabiele groei van 6-inch, 8-inch en 12-inch siliciumcarbidekristallen mogelijk wordt gemaakt met volledige compatibiliteit met geleidende, semi-isolerende en N-type materiaalsystemen. Door nauwkeurige controle van temperatuur, druk en vermogen vermindert het effectief kristaldefecten zoals EPD (Etch Pit Density) en BPD (Basal Plane Dislocation), terwijl het een laag energieverbruik en een compact ontwerp heeft om te voldoen aan de hoge normen van industriële grootschalige productie.

Technische parameters

Parameter
Specificatie
Groeiproces
Fysisch damptransport (PVT)
Verwarmingsmethode
Grafiet weerstandsverwarming
Aanpasbare kristalgroottes
6 inch, 8 inch, 12 inch (omschakelbaar; kamervervangingstijd < 4 uur)
Compatibele kristaltypen
Geleidend type, semi-isolerend type, N-type (volledige serie)
Maximale bedrijfstemperatuur
≥2400℃
Ultiem vacuüm
≤9×10⁻⁵Pa (koudeovenconditie)
Drukstijgingssnelheid
≤1,0Pa/12h (koude oven)
Kristalgroeikracht
34,0 kW
Nauwkeurigheid van vermogensregeling
±0,15% (onder stabiele groeiomstandigheden)
Nauwkeurigheid drukregeling
0,15 Pa (groeifase); fluctuatie <±0,001 Torr (bij 1,0Torr)
Dichtheid van kristaldefecten
BPS < 381 ea/cm²; TED < 1054 e/cm²
Kristalgroeisnelheid
0,2-0,3 mm/uur
Kristalgroei Hoogte
30-40 mm
Algemene afmetingen (B×D×H)
≤1800 mm × 3300 mm × 2700 mm


Kernvoordelen


 Compatibiliteit op volledige grootte

Maakt een stabiele groei mogelijk van 6-inch, 8-inch en 12-inch siliciumcarbidekristallen, volledig compatibel met geleidende, semi-isolerende en N-type materiaalsystemen. Het dekt de productiebehoeften van producten met verschillende specificaties en past zich aan diverse toepassingsscenario's aan.


● Sterke processtabiliteit

De 8-inch kristallen hebben een uitstekende 4H-polytype-consistentie, een stabiele oppervlaktevorm en een hoge herhaalbaarheid; de 12-inch siliciumcarbide-kristalgroeitechnologie heeft de verificatie voltooid met een hoge haalbaarheid voor massaproductie.


● Laag percentage kristaldefecten

Door nauwkeurige controle van temperatuur, druk en vermogen worden kristaldefecten effectief verminderd met sleutelindicatoren die voldoen aan de normen: EPD=1435 ea/cm², BPD=381 ea/cm², TSD=0 ea/cm² en TED=1054 ea/cm². Alle defectindicatoren voldoen aan de hoge eisen aan de kristalkwaliteit, waardoor de opbrengst aan gietstukken aanzienlijk wordt verbeterd.


● Beheersbare bedrijfskosten

Het heeft het laagste energieverbruik van vergelijkbare producten. Kerncomponenten (zoals thermische isolatieschilden) hebben een lange vervangingscyclus van 6-12 maanden, waardoor de uitgebreide bedrijfskosten worden verlaagd.


● Plug-and-Play-gemak

Op maat gemaakte recept- en procespakketten op basis van de kenmerken van de apparatuur, geverifieerd door langdurige en multi-batchproductie, waardoor onmiddellijke productie na installatie mogelijk is.


● Veiligheid en betrouwbaarheid

Gebruikt een speciaal anti-boogvonkontwerp om potentiële veiligheidsrisico's te elimineren; realtime monitoring en vroegtijdige waarschuwingsfuncties vermijden proactief operationele risico's.


● Uitstekende vacuümprestaties

De ultieme indicatoren voor de vacuüm- en drukstijging overtreffen internationaal toonaangevende niveaus, waardoor een schone omgeving voor kristalgroei wordt gegarandeerd.


● Intelligente bediening en onderhoud

Beschikt over een intuïtieve HMI-interface gecombineerd met uitgebreide gegevensregistratie, ter ondersteuning van optionele functies voor bewaking op afstand voor efficiënt en gemakkelijk productiebeheer.


Visuele weergave van kernprestaties


Nauwkeurigheidscurve temperatuurregeling

Temperature Control Accuracy Curve

Nauwkeurigheid van de temperatuurregeling van de kristalgroeioven ≤ ±0,3°C; Overzicht van de temperatuurcurve



Nauwkeurigheidsgrafiek drukregeling


Pressure Control Accuracy Graph

Nauwkeurigheid drukregeling van de kristalgroeioven: 1,0 Torr, Nauwkeurigheid drukregeling: 0,001 Torr


Precisie van vermogensstabiliteit


Stabiliteit en consistentie tussen ovens/batches: de stabiliteitsnauwkeurigheid van vermogen

Power Stability Precision

Onder de kristalgroeistatus bedraagt ​​de nauwkeurigheid van de vermogensregeling tijdens stabiele kristalgroei ±0,15%.


Veteksemicon-productenwinkel

Veteksemicon products shop



Hottags: Grote SiC-kristalgroeioven met weerstandsverwarming
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept