Producten

Veteksemicon siliciumcarbide draagplaat voor LED-etsen, speciaal ontworpen voor de productie van LED-chips, is een belangrijk verbruiksartikel in het etsproces. Het is gemaakt van nauwkeurig gesinterd, zeer zuiver siliciumcarbide en biedt uitzonderlijke chemische bestendigheid en maatvastheid bij hoge temperaturen, waardoor het effectief bestand is tegen corrosie door sterke zuren, basen en plasma. De lage contaminatie-eigenschappen zorgen voor hoge opbrengsten voor epitaxiale LED-wafels, terwijl de duurzaamheid, die veel groter is dan die van traditionele materialen, klanten helpt de totale bedrijfskosten te verlagen, waardoor het een betrouwbare keuze is voor het verbeteren van de efficiëntie en consistentie van het etsproces.

De Veteksemicon-grafietboot voor PECVD is nauwkeurig vervaardigd uit hoogzuiver grafiet en speciaal ontworpen voor plasma-versterkte chemische dampafzettingsprocessen. Door gebruik te maken van ons diepgaande inzicht in halfgeleider thermische veldmaterialen en precisiebewerkingsmogelijkheden, bieden we grafietboten met uitzonderlijke thermische stabiliteit, uitstekende geleidbaarheid en een lange levensduur. Deze boten zijn ontworpen om een ​​zeer uniforme dunnefilmafzetting op elke wafer in de veeleisende PECVD-procesomgeving te garanderen, waardoor de procesopbrengst en productiviteit worden verbeterd.

De CVD TaC gecoate grafietring van Veteksemicon is ontworpen om te voldoen aan de extreme eisen van de verwerking van halfgeleiderwafels. Met behulp van Chemical Vapour Deposition (CVD)-technologie wordt een dichte en uniforme Tantalum Carbide (TaC)-coating aangebracht op zeer zuivere grafietsubstraten, waardoor uitzonderlijke hardheid, slijtvastheid en chemische inertheid worden bereikt. Bij de vervaardiging van halfgeleiders wordt de CVD TaC-gecoate grafietring veel gebruikt in MOCVD-, ets-, diffusie- en epitaxiale groeikamers, en dient als een belangrijk structureel of afdichtingsonderdeel voor waferdragers, susceptors en afschermingsassemblages. Ik kijk uit naar uw verdere overleg.

De poreuze TaC-gecoate grafietring geproduceerd door VETEK maakt gebruik van een lichtgewicht poreus grafietsubstraat en is gecoat met een zeer zuivere tantaalcarbidecoating, met uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen, corrosieve gassen en plasma-erosie

De Silicon Carbide Cantilever Paddle van Veteksemicon is ontworpen voor geavanceerde waferverwerking bij de productie van halfgeleiders. Het is gemaakt van zeer zuiver SiC en levert uitstekende thermische stabiliteit, superieure mechanische sterkte en uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen en corrosieve omgevingen. Deze kenmerken zorgen voor een nauwkeurige handling van wafers, een langere levensduur en betrouwbare prestaties bij processen zoals MOCVD, epitaxie en diffusie. Welkom om te raadplegen.

Veteksemicon SiC keramische vacuümhouder voor wafers is ontworpen om uitzonderlijke precisie en betrouwbaarheid te leveren bij de verwerking van halfgeleiderwafels. Het is vervaardigd uit zeer zuiver siliciumcarbide en zorgt voor een uitstekende thermische geleidbaarheid, chemische bestendigheid en superieure mechanische sterkte, waardoor het ideaal is voor veeleisende toepassingen zoals etsen, depositie en lithografie. Het ultravlakke oppervlak garandeert een stabiele waferondersteuning, waardoor defecten worden geminimaliseerd en de procesopbrengst wordt verbeterd. deze vacuümklauwplaat is de vertrouwde keuze voor hoogwaardige wafelverwerking.