Producten

De CVD TaC gecoate grafietring van Veteksemicon is ontworpen om te voldoen aan de extreme eisen van de verwerking van halfgeleiderwafels. Met behulp van Chemical Vapour Deposition (CVD)-technologie wordt een dichte en uniforme Tantalum Carbide (TaC)-coating aangebracht op zeer zuivere grafietsubstraten, waardoor uitzonderlijke hardheid, slijtvastheid en chemische inertheid worden bereikt. Bij de vervaardiging van halfgeleiders wordt de CVD TaC-gecoate grafietring veel gebruikt in MOCVD-, ets-, diffusie- en epitaxiale groeikamers, en dient als een belangrijk structureel of afdichtingsonderdeel voor waferdragers, susceptors en afschermingsassemblages. Ik kijk uit naar uw verdere overleg.

De poreuze TaC-gecoate grafietring geproduceerd door VETEK maakt gebruik van een lichtgewicht poreus grafietsubstraat en is gecoat met een zeer zuivere tantaalcarbidecoating, met uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen, corrosieve gassen en plasma-erosie

De Silicon Carbide Cantilever Paddle van Veteksemicon is ontworpen voor geavanceerde waferverwerking bij de productie van halfgeleiders. Het is gemaakt van zeer zuiver SiC en levert uitstekende thermische stabiliteit, superieure mechanische sterkte en uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen en corrosieve omgevingen. Deze kenmerken zorgen voor een nauwkeurige handling van wafers, een langere levensduur en betrouwbare prestaties bij processen zoals MOCVD, epitaxie en diffusie. Welkom om te raadplegen.

Veteksemicon SiC keramische vacuümhouder voor wafers is ontworpen om uitzonderlijke precisie en betrouwbaarheid te leveren bij de verwerking van halfgeleiderwafels. Het is vervaardigd uit zeer zuiver siliciumcarbide en zorgt voor een uitstekende thermische geleidbaarheid, chemische bestendigheid en superieure mechanische sterkte, waardoor het ideaal is voor veeleisende toepassingen zoals etsen, depositie en lithografie. Het ultravlakke oppervlak garandeert een stabiele waferondersteuning, waardoor defecten worden geminimaliseerd en de procesopbrengst wordt verbeterd. deze vacuümklauwplaat is de vertrouwde keuze voor hoogwaardige wafelverwerking.

De Veteksemi-massieve SiC-focusring verbetert de etsuniformiteit en processtabiliteit aanzienlijk door het elektrische veld en de luchtstroom aan de waferrand nauwkeurig te regelen. Het wordt veel gebruikt in precisie-etsprocessen voor silicium, diëlektrica en samengestelde halfgeleidermaterialen, en is een sleutelcomponent voor het garanderen van massaproductie en een betrouwbare werking van apparatuur op de lange termijn.

In de cruciale stappen van het reinigen, etsen en nat etsen van wafels is een kwartsbad met hoge zuiverheid meer dan alleen een container; het is de eerste verdedigingslinie voor processucces. Contaminatie met metaalionen, scheuren door thermische schokken, chemische aantasting en deeltjesresten zijn verborgen oorzaken van opbrengstschommelingen. Veteksemi is diep geworteld in kwarts van halfgeleiderkwaliteit. Elk kwartsbad dat wij vervaardigen is ontworpen om compromisloze betrouwbaarheid en zuiverheid te bieden voor uw geavanceerde processen.