Siliciumcarbide draagplaat voor LED-etsen

Algemene productinformatie

Zakelijke voorwaarden voor producten

Sollicitatie: Veteksemicon Siliciumcarbide draagplaat voor LED-etsen is speciaal ontworpen voor LED-etsprocessen. Met zijn uitstekende corrosieweerstand en stabiliteit helpt het klanten de opbrengst aanzienlijk te verbeteren en de totale kosten te verlagen.

Diensten die geleverd kunnen worden: scenarioanalyse van klanttoepassingen, matchen van materialen, oplossen van technische problemen.

Bedrijfsprofiel: Veteksemicon beschikt over 2 laboratoria, een team van experts met 20 jaar materiaalervaring, met R&D- en productie-, test- en verificatiemogelijkheden.

Mijn rivaal Siliciumcarbide draagplaat voor LED-etsen kernvoordelen

1. Uitstekende chemische bestendigheid

Tijdens het nat of droog etsen van LED-chips worden dragers voortdurend blootgesteld aan zeer corrosieve chemicaliën zoals fluorwaterstofzuur, salpeterzuur en fosforzuur. Traditionele kwartsmaterialen eroderen geleidelijk, wat resulteert in oppervlakteruwheid en deeltjesverontreiniging. Veteksemicon siliciumcarbidedragers, met hun inherente chemische inertie, zijn effectief bestand tegen aanvallen van verschillende zuren en basen, waardoor ze de integriteit van het oppervlak en een gladde afwerking behouden, zelfs na honderden cycli van rigoureuze verwerking. Dit verlengt de levensduur aanzienlijk en zorgt ervoor dat de proceskamer schoon blijft.

2. Uitstekende stabiliteit bij hoge temperaturen en maatnauwkeurigheid

Bij de verwerking van halfgeleiders zijn frequente thermische cycli nodig, waardoor de thermische uitzettingscoëfficiënt (CTE) van het materiaal cruciaal is. Onze siliciumcarbide susceptors hebben een extreem lage CTE, die perfect past bij de siliciumwafel. Ze zijn effectief bestand tegen thermische spanning, waardoor kromtrekken of vervorming wordt voorkomen, terwijl ze een uitzonderlijke dimensionale stabiliteit behouden bij aanhoudende bedrijfstemperaturen van honderden graden Celsius. Dit zorgt voor een uniform contact tussen de wafer en de susceptor, waardoor een uitstekende uniformiteit van het etsproces en een hoge consistentie van batch tot batch worden gegarandeerd.

3. Hoge zuiverheid en ultralage vervuiling

LED-epitaxiale wafers zijn extreem gevoelig voor metaalverontreinigingen. Zelfs de kleinste vervuiling kan leiden tot een verminderde lichtopbrengst van de chip en opbrengstverlies. Veteksemicon maakt gebruik van ultrazuivere grondstoffen, geavanceerde sinterprocessen en controleert de productieomgeving rigoureus om de metaaliononzuiverheden in zijn producten tot een minimum te beperken. Dit compromisloze streven naar zuiverheid vanaf de bron biedt de meest betrouwbare bescherming voor uw gevoelige opto-elektronische apparaten en draagt ​​direct bij aan een verbeterde productopbrengst en -prestaties.

4. Uitstekende mechanische eigenschappen en een lange levensduur

Siliciumcarbide bezit een uitzonderlijke hardheid en slijtvastheid. Vergeleken met grafietcomponenten is het minder gevoelig voor stof- en deeltjesverlies, en vergeleken met kwartscomponenten is het bestand tegen grotere mechanische belasting en onbedoelde stoten tijdens het gebruik. Dankzij deze robuuste fysieke eigenschappen zijn de transporteurs van Veteksemicon bestand tegen frequente dagelijkse handelingen, reiniging en transport, waardoor de ongeplande stilstand en de kosten van reserveonderdelen als gevolg van breuk aanzienlijk worden verminderd, wat resulteert in een langere levensduur en lagere totale eigendomskosten voor klanten.

5. Aantekening ecologische ketenverificatie

De ecologische ketenverificatie van Veteksemicon Silicon Carbide Carrier Plate For LED Etching omvat grondstoffen tot productie, is geslaagd voor de internationale standaardcertificering en beschikt over een aantal gepatenteerde technologieën om de betrouwbaarheid en duurzaamheid ervan op het gebied van halfgeleiders en nieuwe energie te garanderen.

Typische toepassingsscenario's

     ● Etsproces van op GaN gebaseerde epitaxiale LED-wafels gekweekt door MOCVD

     ● Droogetsende (ICP, RIE) draagplaat bij de productie van LED-chips

     ● Draagplaat voor nat chemisch etsen bij de productie van LED-chips

     ● Andere gelegenheden waarbij halfgeleidermaterialen moeten worden verwerkt in zeer corrosieve omgevingen en omgevingen met hoge temperaturen

Voor gedetailleerde technische specificaties, whitepapers of voorbeeldtestregelingen kunt u contact opnemen met ons technische ondersteuningsteam om te onderzoeken hoe Veteksemicon uw procesefficiëntie kan verbeteren.

Mijn rivaal-productenwinkel