Webmenu

product zoeken

Taal

Producten
PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor
  • PSS Etching Carrier Plate for SemiconductorPSS Etching Carrier Plate for Semiconductor
  • PSS Etching Carrier Plate for SemiconductorPSS Etching Carrier Plate for Semiconductor

PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor

Vetek Semiconductor's PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor is een hoogwaardige, ultrazuivere grafietdrager die is ontworpen voor wafersafhandelingsprocessen. Onze vervoerders hebben uitstekende prestaties en kunnen goed presteren in harde omgevingen, hoge temperaturen en harde chemische reinigingsomstandigheden. Onze producten worden veel gebruikt in veel Europese en Amerikaanse markten, en we kijken ernaar uit om uw langdurige partner in China te worden. U bent van harte welkom om naar China te komen om onze fabriek te bezoeken en meer te leren over onze technologie en producten.
Stuur onderzoek 
Productomschrijving

Als toonaangevende professionele fabrikant in het veld, is Vetek Semiconductor verheugd om je eersteklas PSS-etsdragerplaten te bieden die speciaal zijn op maat gemaakt voor de halfgeleiderindustrie.


Onze PSS -etsenplaten voor halfgeleiders zijn zeer gespecialiseerde componenten die onmisbaar zijn in de etsprocedures van de plasmabronspectroscopie (PSS) binnen het semiconductorproductie -rijk. Deze platen nemen een cruciale rol op tijdens het etsproces. Ze bieden stabiele ondersteuning en zorgen voor een soepel transport van halfgeleiderwafels, wat cruciaal is voor de precisie en kwaliteit van de etsen.


We nodigen u hartelijk uit om ons te bereiken voor eventuele vragen. We zijn altijd klaar om te helpen en meer gedetailleerde informatie te bieden over onze uitstekende producten.




PSS Etching Carrier Plate for SemiconductorBelangrijkste kenmerken:

● Precisieontwerp: De draagplaat is ontworpen met precieze afmetingen en oppervlakte -vlakheid om uniforme en consistente etsen over de halfgeleiderwafels te garanderen. Het biedt een stabiel en gecontroleerd platform voor de wafels, waardoor nauwkeurige en betrouwbare etsenresultaten mogelijk zijn.

● Plasma -weerstand: De draagplaat vertoont uitstekende weerstand tegen het plasma dat wordt gebruikt in het etsproces. Het blijft onaangetast door de reactieve gassen en energierijke plasma, waardoor langdurige levensduur en consistente prestaties zorgen.

● Thermische geleidbaarheid: De draagplaat heeft een hoge thermische geleidbaarheid om warmte die tijdens het etsproces wordt gegenereerd efficiënt te verdrijven. Dit helpt bij het handhaven van optimale temperatuurregeling en voorkomt oververhitting van de halfgeleiderwafels.

● Compatibiliteit: De PSS Etching Carrier Plate is ontworpen om compatibel te zijn met verschillende halfgeleiderwafergroottes die vaak in de industrie worden gebruikt, waardoor veelzijdigheid en gebruiksgemak zorgt voor verschillende productieprocessen.


Productparameter van de PSS Etching Carrier -plaat voor halfgeleider

Basisfysische eigenschappen van CVD SIC -coating
Eigendom Typische waarde
Kristalstructuur FCC β -fase polykristallijn, voornamelijk (111) georiënteerd
Sic coatingdichtheid 3.21 g/cm³
CVD SIC Coating Hardheid 2500 Vickers Hardheid （500G Laad）
Korrelgrootte 2 ~ 10 μm
Chemische zuiverheid 99,99995%
Warmtecapaciteit 640 J · kg-1· K-1
Sublimatietemperatuur 2700 ℃
Buigsterkte 415 MPA RT 4-punts
Young's Modulus 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Thermische geleidbaarheid 300W · M-1· K-1
Thermische expansie (CTE) 4.5 × 10-6K-1



Het halfgeleider PSS Etching Carrier Plate for SemiconductorProductiewinkel

SiC Graphite substrateCVD TaC coating cover testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment



Overzicht van de Semiconductor Chip Epitaxy Industry Chain:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

Hottags: PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor
Gerelateerde categorie
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
gerelateerde producten
SIC gecoate ICP Etching Carrier
SIC gecoate ICP Etching Carrier Bekijk meer >>
SIC ICP -etsplaat
SIC ICP -etsplaat Bekijk meer >>
SIC gecoate e-chuck
SIC gecoate e-chuck Bekijk meer >>
Plasma etsen focusring
Plasma etsen focusring Bekijk meer >>
SIC gecoate wafer drager voor etsen
SIC gecoate wafer drager voor etsen Bekijk meer >>
Nieuwsaanbevelingen
De Italiaanse LPE's 200 mm SIC epitaxiale technologie voortgang
De Italiaanse LPE's 200 mm SIC epitaxiale technologie voortgangBekijk meer >>
Wat is het verschil tussen siliciumcarbide en tantalum carbide -coatings?
Wat is het verschil tussen siliciumcarbide en tantalum carbide -coatings?Bekijk meer >>
Wat is hete geperste SIC -keramiek?
Wat is hete geperste SIC -keramiek?Bekijk meer >>
Kenmerken van silicium epitaxie
Kenmerken van silicium epitaxieBekijk meer >>
Principes en technologie van fysieke dampdepositiecoating (1/2) - Vetek Semiconductor
Principes en technologie van fysieke dampdepositiecoating (1/2) - Vetek SemiconductorBekijk meer >>
Halfgeleiderproces: Chemical Vapour Deposition (CVD)
Halfgeleiderproces: Chemical Vapour Deposition (CVD)Bekijk meer >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept