Grafietboot voor PECVD

Sollicitatie: Veteksemicon grafietboot voor PECVD is een kerncomponent in het plasma-versterkte chemische dampdepositieproces. Het is speciaal ontworpen voor het aanbrengen van hoogwaardige siliciumnitride, siliciumoxide en andere dunne films op siliciumwafels, samengestelde halfgeleiders en substraten voor beeldschermpanelen. De prestaties ervan bepalen direct de filmuniformiteit, processtabiliteit en productiekosten.

Diensten die geleverd kunnen worden: scenarioanalyse van klanttoepassingen, matchen van materialen, oplossen van technische problemen.

Bedrijfsprofiel：Veteksemicon heeft 2 laboratoria, een team van experts met 20 jaar materiaalervaring, met R&D- en productie-, test- en verificatiemogelijkheden.

Algemene productinformatie

Zakelijke voorwaarden voor producten

Belangrijkste toepassingsgebieden

Mijn rivaal Grafietboot voor PECVD kernvoordelen

1. Zeer zuivere substraten, die de vervuiling vanaf de bron beheersen

We staan ​​erop om isostatisch geperst hoogzuiver grafiet met een stabiele zuiverheid van meer dan 99,995% als basismateriaal te gebruiken om ervoor te zorgen dat er geen metaalverontreinigingen neerslaan, zelfs niet in een continue bedrijfsomgeving van 1600°C. Deze strenge materiaalvereisten kunnen verslechtering van de prestaties van wafers, veroorzaakt door verontreiniging van de drager, direct voorkomen, wat de meest fundamentele garantie biedt voor het afzetten van hoogwaardige siliciumnitride- of siliciumoxidefilms.

2. Nauwkeurig thermisch veld en structureel ontwerp om procesuniformiteit te garanderen

Door middel van uitgebreide vloeistofsimulatie en procesmeetgegevens hebben we de gleufhoek van de boot, de geleidegroefdiepte en het gasstroompad geoptimaliseerd. Deze nauwgezette structurele overweging maakt een uniforme verdeling van reactieve gassen tussen wafers mogelijk. Uit werkelijke metingen blijkt dat bij volledige belasting de uniformiteitsafwijking van de filmdikte tussen wafels in dezelfde batch stabiel kan worden gecontroleerd binnen ±1,5%, waardoor de productopbrengst aanzienlijk wordt verbeterd.

3. Op maat gemaakte coatingoplossingen om specifieke procescorrosie aan te pakken

Om te voldoen aan de verschillende procesgasomgevingen van verschillende klanten, bieden we twee volwassen coatingopties: pyrolytische koolstof en siliciumcarbide. Als u voornamelijk siliciumnitride afzet en waterstofreiniging gebruikt, kan de dichte pyrolytische koolstofcoating een uitstekende weerstand bieden tegen waterstofplasma-erosie. Als uw proces gebruik maakt van fluorhoudende reinigingsgassen, dan is de hoge hardheid siliciumcarbidecoating een betere keuze. Het kan de levensduur van de grafietboot in zeer corrosieve omgevingen verlengen tot meer dan driemaal die van gewone ongecoate producten.

4. Uitstekende thermische schokstabiliteit, aanpasbaar aan frequente temperatuurcycli

Dankzij onze unieke grafietformule en het interne verstevigingsribontwerp zijn onze grafietboten bestand tegen de herhaalde snelle afkoelings- en verwarmingsschokken van het PECVD-proces. In rigoureuze laboratoriumtests bedroeg het behoud van de buigsterkte van de boot na 500 snelle thermische cycli van kamertemperatuur tot 800°C nog steeds meer dan 90%, waardoor scheuren veroorzaakt door thermische spanning effectief werden vermeden en de continuïteit en veiligheid van de productie werden gewaarborgd.

5. Aantekening ecologische ketenverificatie

De Veteksemicon Grafietboot voor PECVD' ecologische ketenverificatie omvat grondstoffen tot productie, is geslaagd voor de internationale standaardcertificering en beschikt over een aantal gepatenteerde technologieën om de betrouwbaarheid en duurzaamheid ervan op het gebied van halfgeleiders en nieuwe energie te garanderen.

Voor gedetailleerde technische specificaties, whitepapers of voorbeeldtestregelingen kunt u contact opnemen met ons technische ondersteuningsteam om te onderzoeken hoe Veteksemicon uw procesefficiëntie kan verbeteren.