Producten
CVD TaC gecoate grafietring
  • CVD TaC gecoate grafietringCVD TaC gecoate grafietring

CVD TaC gecoate grafietring

De CVD TaC gecoate grafietring van Veteksemicon is ontworpen om te voldoen aan de extreme eisen van de verwerking van halfgeleiderwafels. Met behulp van Chemical Vapour Deposition (CVD)-technologie wordt een dichte en uniforme Tantalum Carbide (TaC)-coating aangebracht op zeer zuivere grafietsubstraten, waardoor uitzonderlijke hardheid, slijtvastheid en chemische inertheid worden bereikt. Bij de vervaardiging van halfgeleiders wordt de CVD TaC-gecoate grafietring veel gebruikt in MOCVD-, ets-, diffusie- en epitaxiale groeikamers, en dient als een belangrijk structureel of afdichtingsonderdeel voor waferdragers, susceptors en afschermingsassemblages. Ik kijk uit naar uw verdere overleg.

Algemene productinformatie

Plaats van herkomst:
China
Merknaam:
Mijn rivaal
Modelnummer:
CVD TaC gecoate grafietring-01
Certificering:
ISO9001

Zakelijke voorwaarden voor producten


Minimale bestelhoeveelheid:
Onder voorbehoud van onderhandeling
Prijs:
Neem contact op voor een offerte op maat
Verpakkingsdetails:
Standaard exportpakket
Levertijd:
Levertijd: 30-45 dagen na orderbevestiging
Betalingsvoorwaarden:
T/T
Leveringscapaciteit:
200 eenheden/maand


Sollicitatie: Veteksemicon CVD TaC Coated Ring is speciaal ontwikkeld voorSiC-kristalgroeiprocessen. Als belangrijk dragend onderdeel binnen de hogetemperatuurreactiekamer isoleert de unieke TaC-coating effectief siliciumdampcorrosie, voorkomt verontreiniging door onzuiverheden en zorgt voor structurele stabiliteit in omgevingen met hoge temperaturen op de lange termijn, wat een betrouwbare garantie biedt voor het verkrijgen van kristallen van hoge kwaliteit.


Diensten die geleverd kunnen worden: scenarioanalyse van klanttoepassingen, matchen van materialen, oplossen van technische problemen.


Bedrijfsprofiele:Veteksemicon heeft 2 laboratoria, een team van experts met 20 jaar materiaalervaring, met R&D- en productie-, test- en verificatiemogelijkheden.


Mijn rivaal CVD TaC gecoate ring is een kernverbruiksartikel ontworpen voor chemische dampafzetting en kristalgroei bij hoge temperaturen van geavanceerde halfgeleidermaterialen, met name siliciumcarbide. We maken gebruik van een unieke, geoptimaliseerde chemische dampdepositietechnologie om een ​​dichte, uniforme laag af te zettentantaalcarbide coatingop een zeer zuiver grafietsubstraat. Met uitzonderlijke weerstand tegen hoge temperaturen, uitstekende corrosieweerstand en een extreem lange levensduur beschermt dit product effectief de kristalkwaliteit en verlaagt het uw totale productiekosten aanzienlijk, waardoor het een essentiële keuze is voor processen die processtabiliteit en de hoogste opbrengst vereisen.


Technische parameters:

project
parameter
Basismateriaal
Isostatisch geperst hoogzuiver grafiet (zuiverheid ≥ 99,99%)
Coatingmateriaal
Tantaalcarbide
Coatingtechnologie
Chemische dampafzetting bij hoge temperatuur
Dikte van de coating
Standaard 30-100 μm (kan worden aangepast aan de procesvereisten)
Coating zuiverty
≥ 99,995%
Maximale bedrijfstemperatuur
2200°C (inerte atmosfeer of vacuüm)
Belangrijkste toepassingen
SiC PVT/LPE-kristalgroei, MOCVD, andere CVD-processen bij hoge temperaturen


Mijn rivaal CVD TaC gecoate ringkernvoordelen


Ongeëvenaarde zuiverheid en stabiliteit

In de extreme omgeving van SiC-kristalgroei, waar temperaturen boven de 2000°C komen, kunnen zelfs sporen van onzuiverheden de elektrische eigenschappen van het hele kristal vernietigen. OnsCVD TaC-coating, met zijn uitzonderlijke zuiverheid, elimineert fundamenteel verontreiniging uit de ring. Bovendien zorgt de uitstekende stabiliteit bij hoge temperaturen ervoor dat de coating niet zal ontleden, vervluchtigen of reageren met procesgassen tijdens langdurige hoge temperatuur- en thermische cycli, waardoor een zuivere en stabiele dampfaseomgeving voor kristalgroei ontstaat.


Uitstekende corrosie enerosiebestendigheid

Corrosie van grafiet door siliciumdamp is de voornaamste oorzaak van falen en deeltjesverontreiniging in traditionele grafietringen. Onze TaC-coating, met zijn extreem lage chemische reactiviteit met silicium, blokkeert effectief siliciumdamp en beschermt het onderliggende grafietsubstraat tegen erosie. Dit verlengt niet alleen de levensduur van de ring zelf aanzienlijk, maar, nog belangrijker, vermindert aanzienlijk de hoeveelheid deeltjes die wordt gegenereerd door substraatcorrosie en afbladderen, waardoor de kristalgroeiopbrengst en de interne kwaliteit direct worden verbeterd.


Uitstekende mechanische prestaties en levensduur

De TaC-coating gevormd door het CVD-proces heeft een extreem hoge dichtheid en Vickers-hardheid, waardoor deze extreem goed bestand is tegen slijtage en fysieke impact. In praktische toepassingen kunnen onze producten de levensduur drie tot acht keer verlengen in vergelijking met traditionele grafietringen of met pyrolytische koolstof/siliciumcarbide gecoate ringen. Dit betekent minder uitvaltijd voor vervanging en een hoger gebruik van de apparatuur, waardoor de totale kosten van de productie van één kristal aanzienlijk worden verlaagd.


Uitstekende coatingkwaliteit

De prestaties van een coating zijn sterk afhankelijk van de uniformiteit en hechtsterkte. Ons geoptimaliseerde CVD-proces stelt ons in staat een zeer uniforme laagdikte te bereiken op zelfs de meest complexe ringgeometrieën. Belangrijker nog is dat de coating een sterke metallurgische verbinding vormt met het zeer zuivere grafietsubstraat, waardoor afbladderen, barsten of schilferen, veroorzaakt door verschillen in thermische uitzettingscoëfficiënten tijdens snelle verwarmings- en afkoelcycli, effectief wordt voorkomen, waardoor voortdurende betrouwbare prestaties gedurende de hele levenscyclus van het product worden gegarandeerd.


Onderschrijving van ecologische ketenverificatie

De ecologische ketenverificatie van Veteksemicon CVD TaC Coated Ring omvat grondstoffen tot productie, is geslaagd voor de internationale standaardcertificering en beschikt over een aantal gepatenteerde technologieën om de betrouwbaarheid en duurzaamheid ervan op het gebied van halfgeleiders en nieuwe energie te garanderen.


Belangrijkste toepassingsgebieden

Toepassing richting
Typisch scenario
SiC-kristalgroei
Kernsteunringen voor 4H-SiC en 6H-SiC enkele kristallen gegroeid door PVT (fysiek damptransport) en LPE (vloeistoffase epitaxie) methoden.
GaN op SiC-epitaxie
Een drager of samenstel in een MOCVD-reactor.
Andere halfgeleiderprocessen bij hoge temperaturen
Het is geschikt voor elk geavanceerd halfgeleiderproductieproces dat bescherming van het grafietsubstraat vereist in omgevingen met hoge temperaturen en zeer corrosieve omstandigheden.


Voor gedetailleerde technische specificaties, whitepapers of voorbeeldtestregelingen kunt u terechtNeem contact op met ons technische ondersteuningsteamom te ontdekken hoe Veteksemicon uw procesefficiëntie kan verbeteren.


Veteksemicon products display


Hottags: CVD TaC gecoate grafietring
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept