Producten

In het kernproces van epitaxiale groei van siliciumcarbide begrijpt Veteksemicon dat de prestaties van de susceptor rechtstreeks de kwaliteit en productie-efficiëntie van de epitaxiale laag bepalen. Onze zeer zuivere EPI-susceptoren, speciaal ontworpen voor het SiC-veld, maken gebruik van een speciaal grafietsubstraat en een dichte CVD SiC-coating. Met hun superieure thermische stabiliteit, uitstekende corrosieweerstand en extreem lage deeltjesgeneratie garanderen ze een ongeëvenaarde dikte en doteringsuniformiteit voor klanten, zelfs in zware procesomgevingen met hoge temperaturen. Kiezen voor Veteksemicon betekent kiezen voor de hoeksteen van betrouwbaarheid en prestaties voor uw geavanceerde halfgeleiderproductieprocessen.

Veteksemicon SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM is een kerndragercomponent in epitaxiale halfgeleiderprocessen. Dit product maakt gebruik van onze gepatenteerde pyrolytische siliciumcarbide-coatingtechnologie en precisiebewerkingsprocessen om superieure prestaties en een ultralange levensduur te garanderen in hoge temperaturen en corrosieve procesomgevingen. We begrijpen de strenge eisen van epitaxiale processen op het gebied van substraatzuiverheid, thermische stabiliteit en consistentie zeer goed, en streven ernaar klanten stabiele, betrouwbare oplossingen te bieden die de algehele prestaties van de apparatuur verbeteren.

Veteksemicon kwartskroezen van halfgeleiderkwaliteit zijn belangrijke verbruiksartikelen in het Czochralski-groeiproces voor éénkristal. Met extreme zuiverheid en superieure thermische stabiliteit als onze kernfocus, streven we ernaar klanten producten van hoge kwaliteit te bieden die stabiele prestaties en uitstekende weerstand tegen kristallisatie onder omgevingen met hoge temperaturen en hoge druk vertonen. Dit garandeert de kwaliteit van de kristalstaven vanaf de bron, waardoor de productie van halfgeleider-siliciumwafels hogere opbrengsten en een betere kosteneffectiviteit kan realiseren.

Veteksemicon focusring is speciaal ontworpen voor veeleisende halfgeleideretsapparatuur, met name SiC-etstoepassingen. Gemonteerd rond de elektrostatische klem (ESC), dicht bij de wafer, heeft de primaire functie het optimaliseren van de elektromagnetische veldverdeling binnen de reactiekamer, waardoor een uniforme en gerichte plasmaactie over het gehele waferoppervlak wordt gegarandeerd. Een hoogwaardige focusring verbetert de uniformiteit van de etssnelheid aanzienlijk en vermindert randeffecten, waardoor de productopbrengst en productie-efficiëntie direct worden verhoogd.

Veteksemicon siliciumcarbide draagplaat voor LED-etsen, speciaal ontworpen voor de productie van LED-chips, is een belangrijk verbruiksartikel in het etsproces. Het is gemaakt van nauwkeurig gesinterd, zeer zuiver siliciumcarbide en biedt uitzonderlijke chemische bestendigheid en maatvastheid bij hoge temperaturen, waardoor het effectief bestand is tegen corrosie door sterke zuren, basen en plasma. De lage contaminatie-eigenschappen zorgen voor hoge opbrengsten voor epitaxiale LED-wafels, terwijl de duurzaamheid, die veel groter is dan die van traditionele materialen, klanten helpt de totale bedrijfskosten te verlagen, waardoor het een betrouwbare keuze is voor het verbeteren van de efficiëntie en consistentie van het etsproces.

De Veteksemicon-grafietboot voor PECVD is nauwkeurig vervaardigd uit hoogzuiver grafiet en speciaal ontworpen voor plasma-versterkte chemische dampafzettingsprocessen. Door gebruik te maken van ons diepgaande inzicht in halfgeleider thermische veldmaterialen en precisiebewerkingsmogelijkheden, bieden we grafietboten met uitzonderlijke thermische stabiliteit, uitstekende geleidbaarheid en een lange levensduur. Deze boten zijn ontworpen om een ​​zeer uniforme dunnefilmafzetting op elke wafer in de veeleisende PECVD-procesomgeving te garanderen, waardoor de procesopbrengst en productiviteit worden verbeterd.