Producten
SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM
  • SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASMSiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM

SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM

Veteksemicon SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM is een kerndragercomponent in epitaxiale halfgeleiderprocessen. Dit product maakt gebruik van onze gepatenteerde pyrolytische siliciumcarbide-coatingtechnologie en precisiebewerkingsprocessen om superieure prestaties en een ultralange levensduur te garanderen in hoge temperaturen en corrosieve procesomgevingen. We begrijpen de strenge eisen van epitaxiale processen op het gebied van substraatzuiverheid, thermische stabiliteit en consistentie zeer goed, en streven ernaar klanten stabiele, betrouwbare oplossingen te bieden die de algehele prestaties van de apparatuur verbeteren.

Algemene productinformatie


Plaats van herkomst:
China
Merknaam:
Mijn rivaal
Modelnummer:
SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM-01
Certificering:
ISO9001


Zakelijke voorwaarden voor producten


Minimale bestelhoeveelheid:
Onder voorbehoud van onderhandeling
Prijs:
Neem contact op voor een offerte op maat
Verpakkingsdetails:
Standaard exportpakket
Levertijd:
Levertijd: 30-45 dagen na orderbevestiging
Betalingsvoorwaarden:
T/T
Leveringscapaciteit:
100 eenheden/maand


✔ Toepassing: Veteksemicon SiC-gecoat grafietsubstraat is een belangrijk verbruiksartikel voor de epitaxiale apparatuur uit de ASM-serie. Het ondersteunt de wafer rechtstreeks en zorgt voor een uniform en stabiel thermisch veld tijdens epitaxie bij hoge temperaturen, waardoor het een kerncomponent is voor het garanderen van de hoogwaardige groei van geavanceerde halfgeleidermaterialen zoals GaN en SiC.

✔ Diensten die geleverd kunnen worden: scenarioanalyse van klanttoepassingen, matchen van materialen, oplossen van technische problemen. 

✔ Bedrijfsprofiel:Veteksemicon heeft 2 laboratoria, een team van experts met 20 jaar materiaalervaring, met R&D- en productie-, test- en verificatiemogelijkheden.


Technische parameters


project
parameter
Toepasselijke modellen
Epitaxiale apparatuur uit de ASM-serie
Basismateriaal
Zeer zuiver isostatisch grafiet met hoge dichtheid
Coatingmateriaal
Zeer zuiver pyrolytisch siliciumcarbide
Dikte van de coating
Standaarddikte is 80-150 μm (aanpasbaar volgens procesvereisten van de klant)
Oppervlakteruwheid
Het coatingoppervlak Ra ≤ 0,5 μm (polijsten kan worden uitgevoerd volgens procesvereisten)
Consistentie garantie
Elk product ondergaat strenge uiterlijk-, maat- en wervelstroomtests voordat het de fabriek verlaat om een ​​stabiele en betrouwbare kwaliteit te garanderen


Mijn rivaal SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM-kernvoordelen


1. Extreme zuiverheid en laag defectpercentage

Door gebruik te maken van een zeer zuiver, fijnkorrelig speciaal grafietsubstraat, gecombineerd met ons strikt gecontroleerde chemische dampdepositie (CVD) coatingproces, zorgen we ervoor dat de coating dicht is, vrij van gaatjes en vrij van onzuiverheden. Dit vermindert het risico op deeltjesverontreiniging tijdens het epitaxiale proces aanzienlijk, waardoor een schone substraatomgeving ontstaat voor de groei van hoogwaardige epitaxiale lagen.


2. Uitstekende corrosieweerstand en slijtvastheid

De pyrolytische siliciumcarbidecoating bezit een extreem hoge hardheid en chemische inertheid en is effectief bestand tegen de erosie van siliciumbronnen (zoals SiH4, SiHCl3), koolstofbronnen (zoals C3H8) en etsgassen (zoals HCl, H2) bij hoge temperaturen. Dit verlengt de onderhoudscyclus van de basis aanzienlijk en vermindert de stilstand van de machine als gevolg van vervanging van componenten.


3. Uitstekende thermische uniformiteit en stabiliteit

We hebben de thermische veldverdeling binnen het bedrijfstemperatuurbereik geoptimaliseerd door een nauwkeurig substraatstructuurontwerp en controle van de laagdikte. Dit vertaalt zich direct in een uitstekende dikte en uniformiteit van de soortelijke weerstand in de epitaxiale wafer, wat bijdraagt ​​aan een verbeterde productieopbrengst van de chip.


4. Uitstekende hechtkracht van de coating

Dankzij de unieke oppervlaktevoorbehandeling en gradiëntcoatingtechnologie kan de siliciumcarbidecoating een sterke hechtlaag vormen met het grafietsubstraat, waardoor problemen met afbladderen, schilferen of barsten van de coating die kunnen optreden tijdens langdurige thermische cycli effectief worden voorkomen.


5. Nauwkeurige grootte en structurele replicatie

We beschikken over volwassen CNC-bewerkings- en testmogelijkheden, waardoor we de complexe geometrie, holteafmetingen en montage-interfaces van de originele basis volledig kunnen repliceren, waardoor een perfecte afstemming en plug-and-play-functionaliteit met het platform van de klant wordt gegarandeerd.


6. Aantekening ecologische ketenverificatie

Mijn rivaal SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM' ecologische ketenverificatie omvat grondstoffen tot productie, is geslaagd voor de internationale standaardcertificering en beschikt over een aantal gepatenteerde technologieën om de betrouwbaarheid en duurzaamheid ervan op het gebied van halfgeleiders en nieuwe energie te garanderen.

Voor gedetailleerde technische specificaties, whitepapers of voorbeeldtestregelingen kunt u contact opnemen met ons technische ondersteuningsteam om te onderzoeken hoe Veteksemicon uw procesefficiëntie kan verbeteren.


Belangrijkste toepassingsgebieden


Toepassing richting
Typisch scenario
Productie van SiC-vermogensapparaten
Bij SiC-homoepitaxiale groei ondersteunt het substraat direct het siliciumcarbidesubstraat, waarbij het wordt geconfronteerd met hoge temperaturen van meer dan 1600°C en een zeer etsbare gasomgeving.
Op silicium gebaseerde productie van RF- en stroomapparatuur
Wordt gebruikt om epitaxiale lagen op siliciumsubstraten te laten groeien, die als basis dienen voor de productie van hoogwaardige vermogensapparaten zoals bipolaire transistors met geïsoleerde poort (IGBT's), superjunction MOSFET's en radiofrequentie (RF) apparaten.
Epitaxie van samengestelde halfgeleiders van de derde generatie
Bij hetero-epitaxiale groei van GaN-op-Si (galliumnitride op silicium) dient het bijvoorbeeld als een sleutelcomponent die saffier- of siliciumsubstraten ondersteunt.


Mijn rivaal-productenwinkel


Veteksemicon products shop

Hottags: SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies. Privacybeleid
Afwijzen Accepteren