8 inch Halfmoon-onderdeel voor LPE-reactor

Als professionele fabrikant wil VeTek Semiconductor u een hoogwaardig 8 inch Halfmoon-onderdeel voor LPE Reactor leveren.

VeTek Semiconductor 8 inch halvemaanonderdeel voor LPE-reactor is een essentieel onderdeel dat wordt gebruikt in halfgeleiderproductieprocessen, met name in SiC-epitaxiale apparatuur. VeTek Semiconductor maakt gebruik van een gepatenteerde technologie om 8 inch halvemaanonderdelen voor de LPE-reactor te produceren, waardoor ze een uitzonderlijke zuiverheid, uniforme coating en een uitstekende levensduur hebben. Bovendien vertonen deze onderdelen opmerkelijke chemische weerstand en thermische stabiliteitseigenschappen.

Het hoofdgedeelte van het 8 inch halvemaandeel voor de LPE-reactor is gemaakt van zeer zuiver grafiet, dat uitstekende thermische geleidbaarheid en mechanische stabiliteit biedt. Er is gekozen voor hoogzuiver grafiet vanwege het lage gehalte aan onzuiverheden, waardoor minimale verontreiniging tijdens het epitaxiale groeiproces wordt gegarandeerd. Door zijn robuustheid is hij bestand tegen de veeleisende omstandigheden binnen de LPE-reactor.

VeTek Semiconductor SiC Coated Graphite Halfmoon-onderdelen worden met de grootst mogelijke precisie en aandacht voor detail vervaardigd. De hoge zuiverheid van de gebruikte materialen garandeert superieure prestaties en betrouwbaarheid bij de productie van halfgeleiders. De uniforme coating op deze onderdelen zorgt voor een consistente en efficiënte werking gedurende hun hele levensduur.

Een van de belangrijkste voordelen van onze SiC Coated Graphite Halfmoon-onderdelen is hun uitstekende chemische bestendigheid. Ze zijn bestand tegen de corrosieve aard van de productieomgeving van halfgeleiders, waardoor een lange levensduur wordt gegarandeerd en de noodzaak voor frequente vervanging tot een minimum wordt beperkt. Bovendien zorgt hun uitzonderlijke thermische stabiliteit ervoor dat ze hun structurele integriteit en functionaliteit kunnen behouden onder omstandigheden van hoge temperaturen.

Onze SiC-gecoate grafiet Halfmoon-onderdelen zijn zorgvuldig ontworpen om te voldoen aan de strenge eisen van SiC-epitaxiale apparatuur. Met hun betrouwbare prestaties dragen deze onderdelen bij aan het succes van epitaxiale groeiprocessen, waardoor de afzetting van hoogwaardige SiC-films mogelijk wordt.

CVD SIC Coating Film Crystal Structure: