Producten

De VETEK poreuze TaC-gecoate grafietring is een thermische veldcomponent die is ontworpen voor de groei van SiC-monokristallen via het PVT-proces (Physical Vapor Transport). Het wordt geproduceerd uit zeer zuiver poreus grafiet en gecoat met tantaalcarbide (TaC) met behulp van CVD-technologie. Het ontwerp is gericht op stabiliteit bij hoge temperaturen, chemische veerkracht en gecontroleerde thermische veldprestaties. Door contaminatie te minimaliseren en procesconsistentie te ondersteunen, draagt ​​deze component bij aan reproduceerbare SiC-kristalgroeiresultaten.

De VETEK CVD siliciumcarbide (SiC) gecoate grafiet RTP RTA-drager is ontworpen voor systemen voor snelle thermische verwerking (RTP) en snelle thermische ontlating (RTA) die worden gebruikt bij de productie van halfgeleiders. Het is vervaardigd uit zeer zuiver isostatisch grafiet met een dichte CVD SiC-coating en biedt uitstekende thermische stabiliteit, uitstekende temperatuuruniformiteit, superieure chemische weerstand en ultralage deeltjesgeneratie. De drager is ontworpen om herhaalde snelle verwarmings- en koelcycli te weerstaan ​​en zorgt voor betrouwbare waferondersteuning en stabiele procesprestaties voor het gloeien van siliciumwafels en andere halfgeleidertoepassingen bij hoge temperaturen.

De VETEK CVD TaC gecoate susceptor combineert een zeer zuiver isostatisch grafietsubstraat met een dichte CVD tantaalcarbide (TaC) coating voor uitzonderlijke thermische stabiliteit, corrosieweerstand en lage deeltjesgeneratie voor veeleisende halfgeleiderepitaxie. Het is ontworpen voor epitaxiale groei van SiC, GaN en AlN, minimaliseert verontreiniging, verbetert de uniformiteit van de wafeltemperatuur en verlengt de levensduur van componenten bij MOCVD- en CVD-processen bij hoge temperaturen.

De CVD SiC-gecoate RTP-susceptor van VeTek Semiconductor is bedoeld voor apparatuur voor snelle thermische verwerking (RTP) en snelle thermische gloeiing (RTA) die wordt gebruikt bij de productie van halfgeleiders. Het substraat is vervaardigd uit zeer zuiver isostatisch grafiet, waarover een dichte CVD-laag siliciumcarbide (SiC) is afgezet. Deze constructie levert een hoge thermische geleidbaarheid, robuuste chemische inertheid en aanhoudende maatvastheid op bij herhaalde cycli bij hoge temperaturen.

Voor veeleisende halfgeleiderkristalgroeitoepassingen levert de driedelige grafietkroes van VETEK de stabiliteit, zuiverheid en thermische gelijkmatigheid die het proces vereist. Gemaakt van hoogwaardig isostatisch grafiet – met optionele SiC-, TaC- of PyC-coatings – is het gesplitste ontwerp niet alleen voor het gemak. Het vermindert actief de thermische belasting, maakt het onderhoud sneller en blijft cyclus na cyclus presteren.

De VETEK PG (pyrolytisch grafiet) gecoate ring is speciaal gebouwd voor halfgeleider thermische velden en kristalgroeiomgevingen waar een uniforme warmteverdeling en stabiele temperaturen niet onderhandelbaar zijn. Beginnend met een zeer zuivere grafietbasis en afgewerkt met een dichte pyrolytische grafietcoating, levert dit onderdeel uitzonderlijke thermische geleidbaarheid, is het bestand tegen ernstige thermische schokken en behoudt het zijn afmetingen gedurende lange runs bij extreme temperaturen. U zult deze ringen op grote schaal aantreffen in kristalgroeiovens, hogetemperatuurovens en thermische veldassemblages voor halfgeleiders – overal waar nauwkeurige temperatuurregeling de herhaalbaarheid van processen en de kwaliteit van het eindproduct rechtstreeks aanstuurt.