CVD tantaalcarbide (TaC) gecoate susceptor

Belangrijkste kenmerken

Toepassingen

Typische toepassingen zijn onder meer:

• SiC epitaxiale groei

• GaN MOCVD-epitaxie

• AlN epitaxiale groei

• Productie van halfgeleiders van de derde generatie

• Krachtige elektronica

• RF-apparaten

• MicroLED-productie

• Onderzoek en proefproductiesystemen

Compatibele apparatuur

Compatibele platforms zijn onder meer:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Aangepaste CVD- en MOCVD-reactoren

Ook verkrijgbaar:

• Waferdragers

• Planetaire susceptoren

• Vat susceptors

• Rotatieschijven

• Halvemaandelen

• Afdekplaten

• Grafietassemblages

• Aangepaste thermische veldcomponenten

Technische specificaties

Veelgestelde vragen

1. Wat is een CVD TaC-gecoate susceptor?

Een zeer zuivere grafietcomponent beschermd door een dichte CVD TaC-coating die wordt gebruikt als wafeldrager tijdens epitaxiale groei.

2. Waarom TaC-coa gebruiken?in plaats van SiC-coating?

TaC biedt een hogere temperatuurbestendigheid, superieure chemische stabiliteit en een langere levensduur.

3.Welke halfgeleiderprocessen gebruiken TaC-coated susceptoren?

SiC-epitaxie, GaN MOCVD, AlN-epitaxie en andere kristalgroeiprocessen bij hoge temperaturen.

4. Kan VETEK op maat gemaakte susceptoren vervaardigen?

Ja. Wij bieden op maat gemaakte ontwerpen op basis van klanttekeningen en procesvereisten.

5. Welke reactormerken worden ondersteund?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare en andere reguliere systemen.