Producten

Vetek Semiconductor biedt poreuze SIC -keramische chuck die veel wordt gebruikt in wafer verwerkingstechnologie, overdracht en andere links, geschikt voor binding, scribing, patch, polijsten en andere links, laserverwerking. Onze poreuze SIC-keramische chuck heeft ultrasterke vacuümadsorptie, hoge vlakheid en hoge zuiverheid die voldoen aan de behoeften van de meest halfgeleiderindustrie.

Vetek Semiconductor is een professionele Chinese fabrikant van silicium op isolatorwafer. Het silicium op isolator wafel is een belangrijk halfgeleidersubstraatmateriaal en de uitstekende productkenmerken maken het een sleutelrol in krachtige, lage-kracht-, hoge-integratie- en RF-toepassingen. Ik kijk uit naar uw consult.

TAC-coating wordt momenteel voornamelijk gebruikt in processen zoals siliciumcarbide enkele kristalgroei (PVT-methode), epitaxiale schijf (inclusief siliciumcarbide-epitaxie, LED-epitaxie), enz. Gecombineerd met de goede langetermijnstabiliteit van de TAC-coatingplaat, Veteksemicon's TAC-coatingplaat is het bankmark voor TAC-coating voor TAC-coating voor TAC-coating voor TAC-bureaucratie. We kijken ernaar uit dat u onze langdurige partner wordt.

Als een kernverbruikbaar in het productieproces van halfgeleiders speelt poreus grafiet een onvervangbare rol in meerdere links zoals kristalgroei, doping en gloeien. Als een professionele fabrikant van poreus grafiet, streeft Vetek Semiconductor ernaar hoogwaardige poreuze grafietproducten te bieden tegen concurrerende prijzen, verwelkomen uw verdere aanvraag.

GAN op SIC EPI -susceptor speelt een cruciale rol bij de verwerking van halfgeleiders door zijn uitstekende thermische geleidbaarheid, verwerkingsvermogen en chemische stabiliteit op hoge temperatuur, en zorgt voor de hoge efficiëntie en materiaalkwaliteit van het groeiproces van GAN -epitaxiaal. Vetek Semiconductor is een professionele fabrikant van China van GAN op SIC EPI Susceptor, we kijken oprecht uit naar uw verdere overleg.

CVD TAC -coatingdrager is voornamelijk ontworpen voor het epitaxiale proces van de productie van halfgeleiders. Het ultrahoge smeltpunt van de CVD TAC-coatingdrager, uitstekende corrosieweerstand en uitstekende thermische stabiliteit bepalen de onmisbaarheid van dit product in het epitaxiale proces van halfgeleider. Verwelkom uw verdere aanvraag.