Siliciumcarbide coating

De CVD SIC gecoate grafietdouchekop van Veteksemicon is een krachtige component die speciaal is ontworpen voor halfgeleider chemische dampafzetting (CVD) processen. Vervaardigd uit hoogzuiver grafiet en beschermd met een chemische dampafzetting (CVD) siliciumcarbide (SIC) coating, deze douchekop levert uitstekende duurzaamheid, thermische stabiliteit en weerstand tegen corrosieve procesgassen. Ik kijk uit naar uw verdere consult.

De siliciumcarbide coating waferhouder van Veteksemicon is ontworpen voor precisie en prestaties in geavanceerde halfgeleiderprocessen zoals MOCVD, LPCVD en gloeien met hoge temperatuur. Met een uniforme CVD SIC-coating zorgt deze waferhouder voor uitzonderlijke thermische geleidbaarheid, chemische inertie en mechanische sterkte-essentieel voor verontreinigingsvrije, hoogrentende wafersverwerking.

Veteksemicon hoge zuivere SIC randringen, speciaal ontworpen voor halfgeleider-etsapparatuur, voorzien van uitstekende corrosieweerstand en thermische stabiliteit, waardoor de wafer aanzienlijk wordt verbeterd

Als een toonaangevende Chinese fabrikant en leverancier van siliciumcarbide -coatingproducten, speelt de SIC -gecoate waferdrager van Veteksemsemicon voor ets een onvervangbare kernrol in het etsproces met zijn uitstekende stabiliteit met hoge temperatuur, uitstekende corrosieweerstand en hoge thermische geleidbaarheid.

De CVD SIC-gecoate wafer-susceptor van VetEkSemicon is een geavanceerde oplossing voor halfgeleider-epitaxiale processen, die ultra-hoge zuiverheid biedt (≤100PPB, ICP-E10 gecertificeerd) en uitzonderlijke thermische/chemische stabiliteit voor de contaminatie-resistentgroei van GAN, SIC en silicon-gebaseerde EPI-layers. Het is ontworpen met precisie CVD -technologie, ondersteunt Wafels van 6 "/8"/12 ", zorgt voor minimale thermische spanning en bestand tegen extreme temperaturen tot 1600 ° C.

Onze SIC -gecoate planetaire susceptor is een kerncomponent in het hoge temperatuurproces van de productie van halfgeleiders. Het ontwerp combineert grafietsubstraat met siliciumcarbide -coating om een ​​uitgebreide optimalisatie van thermische beheerprestaties, chemische stabiliteit en mechanische sterkte te bereiken.