Kwartsovenbuis voor diffusieoven

1. Belangrijkste kenmerken en voordelen

• Gedehydroxyleerd gesmolten kwarts met ultrahoge zuiverheid (SiO₂ ≥ 99,999%) met metaalonzuiverheden gecontroleerd op ppb-niveaus en extreem laag hydroxylgehalte

• Bedrijfstemperatuur op lange termijn tot 1100 °C; kortstondige piekweerstand tot 1200 °C

• Uitstekende thermische schokbestendigheid na volledig spanningsvrij gloeien – bestand tegen scheuren bij snelle temperatuurveranderingen

• Uitstekende chemische inertie tegen oxiderende, reducerende en halogeenhoudende procesgassen; geschikt voor plasma en corrosieve atmosferen

• Zeer lage vacuümontgassing; De gladde binnenwand minimaliseert de opbouw van bijproducten en ondersteunt de herhaalbaarheid van het proces

• Vorming uit één stuk met uniforme wanddikte, hoge coaxialiteit en nauwkeurig afgewerkte uiteinden voor betrouwbare afdichting

• Aanpasbare structuren: rechte buizen, verloopbuizen, flensbuizen, verlengde lengtes en speciale eindconfiguraties voor verticale of horizontale ovens

2. Typische toepassingen

VeTek-kwartsovenbuizen worden veel gebruikt als kernreactiekamer in:

• Thermische oxidatieovens (droge/natte oxidatie)

• Diffusieovens voor de introductie van doteermiddelen (B, P, As, etc.)

• LPCVD-systemen voor dunnefilmdepositie

• Vacuümgloeien en andere warmtebehandelingsprocessen bij hoge temperaturen

• Compatibel met 4-inch, 6-inch, 8-inch en 12-inch waferplatforms (Si, SiC, GaN, saffiersubstraten)

Ze ondersteunen logica-, geheugen-, voedingsapparaat-, MCU-, LED-, MEMS- en halfgeleiderproductielijnen met een grote bandafstand die een stabiele temperatuuruniformiteit, gasstroomregeling en ultraschone procesomgevingen vereisen.

3. Belangrijkste technische parameters

• Materiaal: gedehydroxyleerd gesmolten kwarts van halfgeleiderkwaliteit (SiO₂ ≥ 99,999%), laag hydroxylgehalte, lage metaalverontreinigingen

• Wafer-compatibiliteit: 4/6/8/12 inch

• Werktemperatuur op lange termijn: −20 °C tot 1100 °C; kortetermijnpiek tot 1200 °C

• Proces: Thermisch vervormen uit één stuk, wandhomogenisatie, eindafwerking, spanningsvrij gloeien, heliumlektest, ultraschone reiniging

• Beschikbare structuren: rechte buis, verloopbuis, flensbuis, verlengde buis / buis op maat, configuraties met speciale uiteinden

• Maatwerk: binnen-/buitendiameter, lengte, wanddikte, flensspecificaties en speciale geometrieën volgens klanttekeningen

4. Waarom kiezen voor VeTek-kwartsovenbuizen?

Als professionele fabrikant van halfgeleiderkwartscomponenten biedt VeTek Semiconductor:

• Hoogzuivere kwartsovenbuizen ontworpen voor oxidatie-, diffusie-, LPCVD- en gloeiapparatuur

• Strenge zuiverheidscontrole, maatnauwkeurigheid en zuiverheid geschikt voor klasse 10 / klasse 100 cleanroomproductie

• Volledig maatwerk en OEM-compatibele ontwerpen voor verticale en horizontale buisovens

• Complementaire halfgeleiderkwartsproducten, waaronder waferboten, smeltkroezen, voeringen en andere procescomponenten

Onze kwartsovenbuizen helpen bij het handhaven van stabiele thermische en gasstroomomstandigheden, minimaliseren deeltjes- en metaalverontreiniging en verlengen de levensduur bij continue hoge temperatuurcycli, waardoor een hoger rendement en lagere eigendomskosten bij de thermische verwerking van halfgeleiders worden ondersteund.