CVD SIC Pancake Susceptor

Het halfgeleider CVD SIC Pancake Susceptor wordt vervaardigd met behulp van de nieuwste chemische dampdepositie (CVD) -technologie om een ​​uitstekende duurzaamheid en extreme temperatuuraanpassingsvermogen te garanderen. De volgende zijn de belangrijkste fysieke eigenschappen:

● Thermische stabiliteit: De hoge thermische stabiliteit van CVD SiC zorgt voor stabiele prestaties onder hoge temperatuuromstandigheden.

● Lage thermische expansiecoëfficiënt: Het materiaal heeft een extreem lage thermische expansiecoëfficiënt, waardoor kromtrekken en vervorming wordt veroorzaakt door temperatuurveranderingen.

● Chemische corrosieweerstand: Uitstekende chemische weerstand stelt het in staat om hoge prestaties te behouden in verschillende harde omgevingen.

Nauwkeurige ondersteuning en geoptimaliseerde warmteoverdracht

Veteksemi's pannenkoekengebaseerde SIC -gecoate is ontworpen om halfgeleiderwafels te huisvesten en uitstekende ondersteuning te bieden tijdens epitaxiale depositie. De SIC Pancake Susceptor is ontworpen met behulp van geavanceerde computationele simulatietechnologie om kromtrekken en vervorming onder verschillende temperatuur- en drukomstandigheden te minimaliseren. De typische thermische expansiecoëfficiënt is ongeveer 4,0 × 10^-6/° C, wat betekent dat de dimensionale stabiliteit aanzienlijk beter is dan traditionele materialen in omgevingen op hoge temperatuur, waardoor de consistentie van wafeldikte (meestal 200 mm tot 300 mm) wordt gewaarborgd.

Bovendien blinkt de CVD Pancake Susceptor uit in warmteoverdracht, met een thermische geleidbaarheid van maximaal 120 w/m · k. Deze hoge thermische geleidbaarheid kan snel en effectief warmte leiden, de temperatuuruniformiteit in de oven verbeteren, een uniforme warmteverdeling tijdens epitaxiale afzetting garanderen en de afzettingsdefecten veroorzaakt door ongelijke warmte verminderen. Geoptimaliseerde warmteoverdrachtsprestaties zijn van cruciaal belang voor het verbeteren van de kwaliteit van de depositie, wat processchommelingen effectief kan verminderen en de opbrengst kan verbeteren.

Door deze ontwerp- en prestatie -optimalisaties biedt Vetek Semiconductor's CVD SIC Pancake Susceptor een solide basis voor de productie van halfgeleiders, om betrouwbaarheid en consistentie onder harde verwerkingsomstandigheden te waarborgen en aan de strenge vereisten van de moderne halfgeleiderindustrie te voldoen voor hoge precisie en kwaliteit.

CVD SIC -film Kristalstructuur

Basisfysische eigenschappen van CVD SIC -coating

Basisfysische eigenschappen van CVD SIC -coating
Eigendom	Typische waarde
Kristalstructuur	FCC β -fase polykristallijn, voornamelijk (111) georiënteerd
Dikte	3.21 g/cm³
Hardheid	2500 Vickers Hardheid （500G Laad）
Korrelgrootte	2 ~ 10 mm
Chemische zuiverheid	99,99995%
Warmtecapaciteit	640 J · kg-1· K-1
Sublimatietemperatuur	2700 ℃
Buigsterkte	415 MPA RT 4-punts
Young's Modulus	430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Thermische geleidbaarheid	300W · M-1· K-1
Thermische expansie (CTE)	4.5 × 10-6K-1