CVD SiC gecoate grafiet susceptor voor waferdrager

1. Productvoordelen

• Hoge zuiverheidsmateriaal:Het grafietmateriaal van halfgeleiderkwaliteit en de dichte SiC-coatingstructuur minimaliseren het besmettingsrisico en verbeteren de betrouwbaarheid van de met CVD SiC gecoate grafiet susceptor.
• Uitstekende thermische uniformiteit:Geoptimaliseerde grafietstructuur en SiC-coating zorgen voor een stabiele warmteoverdracht en uniforme temperatuurregeling van de wafer.
• Superieure chemische weerstand:De dichte SiC-coating biedt een sterke weerstand tegen procesgassen en corrosieve omgevingen.
• Lange levensduur:Hoge hardheid en slijtvastheid verbeteren de duurzaamheid onder epitaxieomstandigheden bij hoge temperaturen.
• Lage deeltjesgeneratie:Het dichte CVD SiC-oppervlak vermindert het vrijkomen van deeltjes en verbetert de betrouwbaarheid van het waferproces.
• Aangepaste ontwerpmogelijkheden:Verkrijgbaar in verschillende maten, structuren en configuraties, afhankelijk van de apparatuurvereisten.

2. Technische specificaties

3. Toepassingen

• SiC-epitaxieproces:De grafiet susceptor wordt gebruikt als wafeldrager in SiC-epitaxieapparatuur en ondersteunt SiC-substraten tijdens epitaxiale groei bij hoge temperaturen.
• Siliciumepitaxieproces:Toegepast in epitaxiale siliciumreactoren voor het ondersteunen van wafers en het handhaven van stabiele thermische omstandigheden.
• MOCVD Epitaxie:VETEK grafiet susceptoren zijn geschikt voor MOCVD, LED-epitaxie, GaN-epitaxie, siliciumepitaxie en andere halfgeleiderproductieprocessen die uitstekende thermische uniformiteit en chemische stabiliteit vereisen.
• Apparatuur voor de productie van halfgeleiders:Compatibel met verschillende epitaxieplatforms, waaronder LPE horizontale ovens, Aixtron, NuFlare en aanverwante halfgeleiderapparatuur.

4. Waarom kiezen voor VETEK?

VETEK biedt op maat gemaakte CVD SiC-gecoate grafiet susceptoroplossingen waarin grafietzuivering, precisiebewerking, CVD-coating en inspectiemogelijkheden zijn geïntegreerd. Onze grafiet susceptorproducten van halfgeleiderkwaliteit kenmerken zich door een hoge zuiverheid, uniforme laagdikte, uitstekende thermische prestaties en een lange levensduur voor veeleisende waferdragertoepassingen.