Halfgeleider keramisch mondstuk

Halfgeleider keramisch mondstuk speelt een belangrijke rol in deHDP-CVD-proces, gebruikt om de gasstroom nauwkeurig te regelen en te garanderenhoogwaardige filmafzetting. Keramische spuitmondjes zijn nauwkeurig ontworpen om consistente en regelbare gasstroomsnelheden te garanderen, waardoor mogelijke turbulentie wordt geminimaliseerd wanneer het gas de reactiekamer binnenkomt.

Technische specificaties:

1. Materiële compositie:

VeTeK Semiconductor Keramische zandstraalmondstukken zijn doorgaans gemaakt van halfgeleiderkeramiek zoals aluminiumoxide (Al2O3),Siliconencarbide (sic), of zirkoniumoxide (ZrO2), deze materialen hebben uitstekende eigenschappen:

    • Hoge thermische stabiliteit (kan de temperatuur boven 1000 ℃) weerstaan)

    • weerstand tegen corrosie door reactieve gassen die worden gebruiktCVD -processen(zoals silane, ammoniak)

    • weerstand tegen continue plasmablootstelling.

2. Structureel ontwerp:

    • Openingsgrootte: De opening van het keramische halfgeleidermondstuk is wetenschappelijk ontworpen om nauwkeurige controle van de gasstroom mogelijk te maken, wat op zijn beurt de uniformiteit en dikte van de film beïnvloedt.

    • Hoeken en geometrieën: precies ontworpen om een ​​uniforme gasverdeling over het substraat te garanderen, waardoor defecten in de afgezette laag worden geminimaliseerd.

In de halfgeleiderindustrie spelen keramische halfgeleiderstraalmondstukken vooral een sleutelrol in het HDP-CVD-proces. Ze worden ook gebruikt om dunne films af te zetten voor de productie van micro-elektronica, waardoor hoogwaardige oppervlaktecoatings worden gegarandeerd die uniform en vrij van verontreinigingen zijn.

VeTeK Semiconductor keramische spuitmondwinkels: