Aluminiumoxide keramische vacuüm chuck

Aluminiumoxide keramische vacuüm Chuck is een wafelhouder voor epitaxiale processen bij de verwerking van halfgeleiders. Het is een belangrijk hulpmiddel voor het stabiliseren van wafels en het waarborgen van een uniforme groei van epitaxiale lagen. Het wordt veel gebruikt in epitaxiale apparatuur zoalsMoCVDEnLPCVD.

Vetek halfgeleider aluminiumoxide keramische vacuüm Chuck speelt een cruciale rol in de wafersverdunning en slijpstadia van de productie van halfgeleiders. Deze fasen omvatten het nauwkeurig verminderen van de dikte van deWafer -substraatOm de dissipatie van de chipwarmte te verbeteren, wat essentieel is voor het verbeteren van de efficiëntie en het leven van halfgeleiderapparaten.

Compatibel met meerdere wafergroottes: Vetek Semiconductor Alumina Ceramic Vacuum Chuck is ontworpen om een ​​breed scala aan wafelgroottes te ondersteunen, waaronder 2, 3, 4, 5, 6, 8 en 12 inch. Dit aanpassingsvermogen maakt het geschikt voor een verscheidenheid aan productie -omgevingen van halfgeleiders, waardoor consistente en betrouwbare prestaties worden gezorgd over verschillende wafers.

Superieure materiaalsamenstelling: De basis van de aluminiumoxide keramische vacuüm chuck is gemaakt van ultrazuiver 99.9999% aluminiumoxide (AL₂O₃), die uitstekende weerstand biedt tegen chemische aanval en thermische stabiliteit. Het chuck -oppervlak is gemaakt van poreusSiliconencarbide (sic). Het poreuze keramische materiaal heeft een dichte en uniforme structuur, die zijn duurzaamheid en prestaties verbetert.

Voordelen vanPoreuze keramische technologie：

Materiële zuiverheid en duurzaamheid: Gemaakt van 99,99% zuiver aluminiumoxide, onze aluminiumoxide keramische vacuüm Chuck is bestand tegen chemische aanval en biedt uitstekende thermische stabiliteit, waardoor het ideaal is voor extreem veeleisende productieomgevingen.

Optimale porositeit en luchtpermeabiliteit: Gelijkmatig verdeelde microporiën bieden uitstekende luchtpermeabiliteit en uniforme adsorptiekracht, wat resulteert in een soepele en consistente werking.

Verbeterde vlakheid en parallellisme: Microporeuze aluminiumoxide keramische vacuüm kissen hebben een uitstekende vlakheid en parallellisme, waardoor precieze afhandeling en stabiliteit zorgt.

Aangepaste servicemogelijkheden: Veteksemi kan een verscheidenheid aan aanpasbare vormen bieden, waaronder ronde, vierkante, ring en andere ontwerpen, met dikte variërend van 3 mm tot 10 mm. Deze aanpassing zorgt ervoor dat onze aluminiumoxide keramische vacuümblauwingen voldoen aan de specifieke behoeften van verschillende halfgeleiderproductieprocessen en absoluut uw ideale keuze zijn.

Vetek Semiconductor streeft ernaar geavanceerde technologie- en productoplossingen te bieden voor de halfgeleiderindustrie, en we hopen oprecht uw langdurige partner in China te zijn.

DeChemische formule vanaluminiumoxide keramiek：

Het halfgeleiderAluminiumoxide keramische vacuüm Chuck -winkels: