Industrie nieuws

Hoogzuivere materialen zijn essentieel voor de productie van halfgeleiders. Bij deze processen zijn extreme hitte en corrosieve chemicaliën betrokken. CVD-SiC (Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) zorgt voor de nodige stabiliteit en sterkte. Het is nu een primaire keuze voor geavanceerde apparatuuronderdelen vanwege de hoge zuiverheid en dichtheid.

In de wereld van halfgeleiders van siliciumcarbide (SiC) gaat de meeste aandacht uit naar 8-inch epitaxiale reactoren of de fijne kneepjes van het polijsten van wafels. Als we de toeleveringsketen echter terugvoeren tot het allereerste begin – in de Physical Vapor Transport (PVT) oven – vindt er stilletjes een fundamentele ‘materiaalrevolutie’ plaats.

In het tijdperk van snelle MEMS-evolutie (Micro-Elektromechanische Systemen) is het selecteren van het juiste piëzo-elektrische materiaal een beslissende keuze voor de prestaties van apparaten. PZT (Lead Zirconate Titanate) dunnefilmwafels zijn de eerste keuze geworden boven alternatieven zoals AlN (aluminiumnitride), die superieure elektromechanische koppeling bieden voor geavanceerde sensoren en actuatoren.