Terwijl de productie van halfgeleiders zich blijft ontwikkelen in de richting van geavanceerde procesknooppunten, hogere integratie en complexe architecturen, ondergaan de beslissende factoren voor de wafelopbrengst een subtiele verschuiving. Voor de productie van halfgeleiderwafels op maat ligt het doorbraakpunt voor de opbrengst niet langer uitsluitend in kernprocessen als lithografie of etsen; hoogzuivere susceptoren worden steeds meer de onderliggende variabele die de processtabiliteit en -consistentie beïnvloedt.
Als in de wereld van halfgeleiders met een brede bandafstand (WBG) het geavanceerde productieproces de 'ziel' is, is de grafietkroes de 'ruggengraat' en is de oppervlaktecoating de kritische 'huid'.
In de wereld van de vermogenselektronica waar veel op het spel staat, zijn siliciumcarbide (SiC) en galliumnitride (GaN) de speerpunten van een revolutie: van elektrische voertuigen (EV's) naar infrastructuur voor hernieuwbare energie. De legendarische hardheid en chemische inertie van deze materialen vormen echter een formidabel knelpunt bij de productie.
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies.Privacybeleid