Met de mondiale energietransitie, de AI-revolutie en de golf van informatietechnologieën van de nieuwe generatie is siliciumcarbide (SiC) snel geëvolueerd van een ‘potentieel materiaal’ naar een ‘strategisch basismateriaal’ vanwege zijn uitzonderlijke fysieke eigenschappen.
Bij hoge-temperatuurprocessen in halfgeleiders zijn de hantering, ondersteuning en thermische behandeling van wafers afhankelijk van een speciaal ondersteunend onderdeel: de waferboot. Naarmate de procestemperaturen stijgen en de vereisten voor zuiverheid en deeltjesbeheersing toenemen, brengen traditionele kwartswafelboten geleidelijk problemen aan het licht zoals een korte levensduur, hoge vervormingssnelheden en een slechte corrosieweerstand.
Voor de productie van siliciumcarbidesubstraten op industriële schaal is het succes van een enkele groeirun niet het einddoel. De echte uitdaging ligt in het garanderen dat kristallen die in verschillende batches, gereedschappen en tijdsperioden zijn gekweekt, een hoog niveau van consistentie en herhaalbaarheid in kwaliteit behouden. In deze context gaat de rol van tantaalcarbide (TaC)-coating verder dan alleen basisbescherming: het wordt een sleutelfactor bij het stabiliseren van het procesvenster en het veiligstellen van de productopbrengst.
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies.Privacybeleid