ICP/PSS-etsproces

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductief gekoppelde plasma-fotoresiststripping) etsproces Wafer Carrier is speciaal ontworpen om te voldoen aan de veeleisende eisen van de etsprocessen van de halfgeleiderindustrie. Met zijn geavanceerde functies zorgt het voor optimale prestaties, efficiëntie en betrouwbaarheid tijdens het hele etsproces.

Het voordeel van VeTek Semiconductor ICP/PSS-etsproces Susveptors:

Verbeterde chemische compatibiliteit: De waferdrager is gemaakt van materialen die uitstekende chemische compatibiliteit vertonen met de chemie van het etsproces. Dit garandeert compatibiliteit met een breed scala aan etsmiddelen, resiststrippers en reinigingsoplossingen, waardoor het risico op chemische reacties of besmetting wordt geminimaliseerd.

Weerstand tegen hoge temperaturen: De waferdrager is ontworpen om bestand te zijn tegen hoge temperaturen die optreden tijdens het etsproces. Het behoudt zijn structurele integriteit en mechanische sterkte en voorkomt vervorming of schade, zelfs onder extreme thermische omstandigheden.

Superieure etsuniformiteit: De drager heeft een nauwkeurig ontworpen ontwerp dat een uniforme verdeling van etsmiddelen en gassen over het waferoppervlak bevordert. Dit resulteert in consistente etssnelheden en hoogwaardige, uniforme patronen, essentieel voor het bereiken van nauwkeurige en betrouwbare etsresultaten.

Uitstekende waferstabiliteit: De drager is voorzien van een veilig wafervasthoudmechanisme dat zorgt voor een stabiele positionering en voorkomt dat de wafer beweegt of wegglijdt tijdens het etsproces. Dit garandeert nauwkeurige en herhaalbare etspatronen, waardoor defecten en opbrengstverliezen worden geminimaliseerd.

Compatibiliteit met cleanrooms: De waferdrager is ontworpen om te voldoen aan strenge cleanroomnormen. Het beschikt over een lage deeltjesproductie en uitstekende zuiverheid, waardoor deeltjesverontreiniging wordt voorkomen die de kwaliteit en opbrengst van het etsproces in gevaar zou kunnen brengen. De onzuiverheid ligt onder 5 ppm.

Robuuste en duurzame constructie: De drager is ontworpen met hoogwaardige materialen die bekend staan ​​om hun duurzaamheid en lange levensduur. Het is bestand tegen herhaald gebruik en rigoureuze reinigingsprocessen zonder de prestaties of structurele integriteit in gevaar te brengen.

Aanpasbaar ontwerp: we bieden aanpasbare opties om aan specifieke klantvereisten te voldoen. De drager kan op maat worden gemaakt om tegemoet te komen aan verschillende waferafmetingen, diktes en processpecificaties, waardoor compatibiliteit met verschillende etsapparatuur en -processen wordt gegarandeerd.

Ervaar de betrouwbaarheid en prestaties van onze ICP/PSS Etching Process Wafer Carrier, ontworpen om het etsproces in de halfgeleiderindustrie te optimaliseren. De verbeterde chemische compatibiliteit, hoge temperatuurbestendigheid, superieure etsuniformiteit, uitstekende waferstabiliteit, compatibiliteit met cleanrooms, robuuste constructie en aanpasbaar ontwerp maken het de ideale keuze voor uw etstoepassingen.

PSS-etsplaat ICP-etsplaat ICP Ets Susceptor