SIC gecoate grafiet Susceptor voor MOCVD

Vetek Semiconductor's SIC-gecoate grafiet Susceptor voor MOCVD is een SiC-gecoate grafietdrager met een hoge zuivere, specifiek ontworpen voor epitaxiale laaggroei op waferschips. Als een centrale component in MOCVD -verwerking, meestal gevormd als een versnelling of ring, beschikt het over uitzonderlijke hittebestendigheid en corrosieweerstand, waardoor stabiliteit in extreme omgevingen wordt gewaarborgd.

Belangrijkste kenmerken van de MOCVD SIC gecoate grafiet Susceptor:

●   Schilferbestendige coating: Zorgt voor een uniforme dekking van de SiC-coating op alle oppervlakken, waardoor het risico op het loskomen van deeltjes wordt verminderd

● Uitstekende oxidatieweerstand op hoge temperatuurce: Blijft stabiel bij temperaturen tot 1600°C

● Hoge zuiverheid: Vervaardigd door CVD-chemische dampafzetting, geschikt voor chloreringsomstandigheden op hoge temperatuur

● Superieure corrosieweerstand: Zeer resistent tegen zuren, alkalis, zouten en organische reagentia

●   Geoptimaliseerd laminair luchtstroompatroon: Verbetert de uniformiteit van de luchtstroomdynamiek

●   Uniforme thermische distributie: Zorgt voor een stabiele warmteverdeling tijdens processen op hoge temperatuur

● Verontreinigingspreventie: Voorkomt diffusie van verontreinigingen of onzuiverheden, waardoor wafel netheid zorgt

Bij Vetek Semiconductor houden we ons aan strikte kwaliteitsnormen en leveren we betrouwbare producten en diensten aan onze klanten. We selecteren alleen premium materialen, streven ernaar om te voldoen aan de prestaties van de industrie en te overtreffen. Onze SiC -gecoate grafiet -saus voor MOCVD is een voorbeeld van deze verbintenis tot kwaliteit. Neem contact met ons op om meer te weten te komen over hoe we uw semiconductorwaferverwerkingsbehoeften kunnen ondersteunen.

CVD SIC -film Crystal Structure:

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating:

VeTek-halfgeleider MoCVD SiC-gecoate grafietreceptor: