PAN-gebaseerd koolstofvezel zacht vilt

1. Kernprestatiefactoren

• Hoge zuiverheid:Hoogzuivere kwaliteiten met een asgehalte van minder dan 20 ppm, om besmetting tijdens de groei van gevoelige halfgeleiders te voorkomen.
• Thermische efficiëntie:De lage thermische geleidbaarheid van 0,1-0,13 W/(m*k) bij 25°C handhaaft stabiele temperatuurgradiënten en vermindert energieverlies.
• Hittebestendigheid:Betrouwbare stabiliteit, zelfs in omgevingen boven de 2200°C.
• Structurele integriteit:Ons luchtstraalvormproces houdt de vezels gelijkmatig. Dit voorkomt hotspots en materiaalmoeheid die vaak lange groeicycli verstoren.  

3. Toepassingen

Halfgeleiderproductie:Dit is een belangrijke isolatielaag voor monokristallijne silicium- en SiC-kristalgroeiovens.

Optische vezelcommunicatie:Ideaal voor gebruik in sinterovens, trektorens en staafproductie bij hoge temperaturen.

Geavanceerd onderzoek:Vertrouwd op saffiergroeiovens en gespecialiseerde zuiveringssystemen op hoge temperatuur.

4. Waarom kiezen voor VETEK?

Snellere doorvoer:Door materialen met een lage soortelijke warmte te gebruiken, hebben we de thermische cycli veel sneller gemaakt, waardoor uw dagelijkse doorvoer direct toeneemt.

Betrouwbare afscherming:Onze productiefocus ligt op strikte controle op de vezeldichtheid; we elimineren zwakke plekken, zodat u betrouwbare afscherming over de hele kamer krijgt.

HPSI-normen:Voor HPSI- en RF-processen zijn onze hogezuiverheidsstandaarden speciaal ontworpen om aan die gevoelige vereisten met hoge weerstand te voldoen.
Eenvoudige installatie:Omdat het materiaal van nature flexibel is, kan het nauwkeurig worden gesneden om in complexe geometrieën te passen, wat het hele installatieproces echt helpt vereenvoudigen.