Nieuws

In de Semiconductor Manufacturing -industrie, naarmate de apparaatgrootte blijft krimpen, heeft de depositietechnologie van dunne filmmaterialen ongekende uitdagingen gesteld. Atomic Layer Deposition (ALD), als een dunne filmafzettingstechnologie die nauwkeurige controle op atomair niveau kan bereiken, is een onmisbaar onderdeel geworden van de productie van halfgeleiders. Dit artikel is bedoeld om de processtroom en de principes van ALD te introduceren om de belangrijke rol in de geavanceerde chipproductie te helpen begrijpen.

Het is ideaal om geïntegreerde schakelingen of halfgeleiderapparaten op een perfecte kristallijne basislaag te bouwen. Het epitaxieproces (epi) bij de vervaardiging van halfgeleiders heeft tot doel een fijne enkelkristallijne laag, gewoonlijk ongeveer 0,5 tot 20 micron, op een enkelkristallijn substraat af te zetten. Het epitaxieproces is een belangrijke stap bij de vervaardiging van halfgeleiderapparaten, vooral bij de productie van siliciumwafels.

Het belangrijkste verschil tussen epitaxie en de afzetting van atoomlaag (ALD) ligt in hun filmgroeipechanismen en bedrijfsomstandigheden. Epitaxie verwijst naar het proces van het kweken van een kristallijne dunne film op een kristallijn substraat met een specifieke oriëntatierelatie, waarbij dezelfde of vergelijkbare kristalstructuur wordt gehandhaafd. ALD is daarentegen een afzettingstechniek waarbij een substraat wordt blootgesteld aan verschillende chemische voorlopers in volgorde om een ​​dunne film één atoomlaag tegelijk te vormen.

CVD TAC-coating is een proces voor het vormen van een dichte en duurzame coating op een substraat (grafiet). Deze methode omvat het afzetten van TaC op het substraatoppervlak bij hoge temperaturen, wat resulteert in een tantaalcarbide (TaC) coating met uitstekende thermische stabiliteit en chemische weerstand.

Naarmate het 8-inch siliciumcarbide (SiC)-proces volwassener wordt, versnellen fabrikanten de verschuiving van 6-inch naar 8-inch. Onlangs hebben ON Semiconductor en Resonac updates aangekondigd over de 8-inch SiC-productie.

Dit artikel introduceert de nieuwste ontwikkelingen in de nieuw ontworpen PE1O8 hot-wall CVD-reactor van het Italiaanse bedrijf LPE en zijn vermogen om uniforme 4H-SiC-epitaxie uit te voeren op 200 mm SiC.