CVD SIC grafietcilinder

De CVD SIC -grafietcilinder van Vetek Semiconductor speelt een belangrijke rol in halfgeleiderapparatuur. Het wordt meestal gebruikt als een beschermende dekking in de reactor om bescherming te bieden voor de interne componenten van de reactor in hoge temperatuur en hogedrukomgevingen. Deze beschermende dekking kan de chemicaliën en hoge temperaturen in de reactor effectief isoleren, waardoor ze geen schade aan de apparatuur veroorzaken. Tegelijkertijd heeft CVD SIC-grafietcilinder ook uitstekende slijtage en corrosieweerstand, waardoor het in staat is om de stabiliteit en de duurzaamheid op lange termijn in harde werkomgevingen te behouden. Door gebruik te maken van beschermende hoes van dit materiaal, kunnen de prestaties en betrouwbaarheid van halfgeleiderapparaten worden verbeterd, waardoor de levensduur van het apparaat wordt verlengd, terwijl onderhoudsbehoeften en het risico op schade worden verminderd.

CVD SIC -grafietcilinder wordt veel gebruikt in halfgeleiderapparatuur, die de volgende sleutelgebieden bedekt:

Warmtebehandelingsapparatuur

Het dient als een beschermend deksel of warmteschild in warmtebehandelingsapparatuur. Dit beschermt niet alleen interne componenten tegen schade op hoge temperatuur, maar heeft ook een uitstekende weerstand op hoge temperatuur.

Chemische dampafzetting (CVD) reactoren

In CVD -reactoren fungeert het als een beschermende dekking voor de chemische reactiekamer. Het isoleert effectief reactiestoffen en biedt een goede corrosieweerstand.

Corrosieve omgevingen

Dankzij de uitstekende corrosieweerstand kan CVD SIC -grafietcilinder worden gebruikt in chemisch corrosieve instellingen tijdens de productie van halfgeleiders, zoals omgevingen met corrosieve gassen of vloeistoffen.

Halfgeleider groeimateriaal

Het functioneert als beschermende deksels of andere componenten in halfgeleidergroeiapparatuur. Door de apparatuur te beschermen tegen hoge temperaturen, chemische corrosie en slijtage, zorgt het voor de stabiliteit van de apparatuur en de langdurige betrouwbaarheid.

Gekenmerkt door hoge temperatuurstabiliteit, corrosieweerstand, uitstekende mechanische eigenschappen en een goede thermische geleidbaarheid, vergemakkelijkt CVD SiC -grafietcilinder efficiëntere warmtedissipatie in halfgeleiderapparaten, waardoor apparaatstabiliteit en prestaties worden gehandhaafd.