Technologie & oplossingen

Door de juiste CVD SiC-, TaC-coating of Solid SiC te selecteren, worden de deeltjesniveaus en de levensduur van componenten op epitaxie-/etslijnen direct bepaald. Dit artikel biedt duidelijke selectiegrenzen op basis van temperatuur, atmosfeer en proces, gecombineerd met belangrijke oplossingen voor vervanging van apparatuur en belangrijke meetgegevens, zodat u snel beslissingen kunt nemen en risico's kunt verminderen.

Ontdek hoe de watergeleide lasertechnologie van VeTek uniforme doorgaande gaten van Φ0,15 mm levert in 2 mm SiC-substraten zonder tapsheid, minimale HAZ en hoge opbrengst voor halfgeleidertoepassingen.

Het meest uitdagende technische probleem voor holle hefpennen van halfgeleiderapparatuur is niet de buitenste oppervlaktecoating, maar het bereiken van een stabiele en uniforme CVD-coating op de binnenwand van de holle structuur. Van de uniformiteitscontrole van de binnenwandcoating tot het garanderen van de reinheid van de interne boring: elke processtap heeft rechtstreeks invloed op de wafelopbrengst. Dit artikel analyseert de belangrijkste uitdagingen van de coating van de binnenwand van holle hefpennen en de belangrijkste technische trajecten.