TAC Coating Rotatie Susceptor

Vetek Semiconductor TAC Coating Rotatie Susceptor is een belangrijk onderdeel voor het afhandelen van wafers in de verwerking van halfgeleiders. ZijnTac watOnsheeft een uitstekende tolerantie van hoge temperatuur (smeltpunt tot 3880 ° C), chemische stabiliteit en corrosieweerstand, die zorgen voor een hoge precisie en hoge kwaliteit bij het verwerking van wafers.

TAC -coatingrotatie Susceptor (tantalum koolstofcoating rotatie Susceptor) is een belangrijke apparatuurcomponent die wordt gebruikt bij de verwerking van halfgeleiders. Het is meestal geïnstalleerd inChemische dampafzetting (CVD)en moleculaire bundelpitaxie (MBE) apparatuur om wafels te ondersteunen en te roteren om uniforme materiaalafzetting en efficiënte reactie te garanderen. Dit type product verbetert de levensduur van de services en de prestaties van de apparatuur in hoge temperatuur en corrosieve omgevingen aanzienlijk door het substraat te coaten mettantalum koolstof (TAC) coOns.

TAC -coatingrotatie Susceptor bestaat meestal uit TAC -coating en grafiet of siliciumcarbide als het substraatmateriaal. TAC is een ultrahoge temperatuur keramisch materiaal met een extreem hoog smeltpunt (smeltpunt tot 3880 ° C), hardheid (Vickers Hardheid is ongeveer 2000 HK) en uitstekende chemische corrosieweerstand. Vetek Semiconductor kan de tantalum -koolstofcoating op het substraatmateriaal effectief en gelijkmatig bedekken via CVD -technologie.

Rotatie -susceptor is meestal gemaakt van hoge thermische geleidbaarheid en materialen met hoge sterkte (grafiet ofsiliciumcarbide), die goede mechanische ondersteuning en thermische stabiliteit in omgevingen met hoge temperatuur kan bieden. De perfecte combinatie van de twee bepaalt de perfecte prestaties van TAC -coatingrotatie Susceptor in ondersteunende en roterende wafels.

TAC -coatingrotatie Susceptor ondersteunt en roteert de wafer in het CVD -proces. De Vickers -hardheid van TAC is ongeveer 2000 HK, waardoor het kan weerstaan ​​aan herhaalde wrijving van het materiaal en een goede ondersteunende rol speelt, waardoor het reactiegas gelijkmatig op het wafeloppervlak wordt verdeeld en het materiaal gelijkmatig wordt afgezet. Tegelijkertijd kan de tolerantie van hoge temperatuur en corrosieweerstand van TAC -coating lang worden gebruikt voor een lange tijd in hoge temperatuur en corrosieve atmosferen, die effectief de besmetting van de wafer en de drager effectief vermijdt.

Bovendien is de thermische geleidbaarheid van TAC 21 w/m · k, die een goede warmteoverdracht heeft. Daarom kan TAC -coating rotatie -susceptor de wafer gelijkmatig verwarmen onder hoge temperatuuromstandigheden en de uniformiteit van het gasafzettingsproces door rotatiebeweging waarborgen, waardoor de consistentie en hoge kwaliteit van behouden blijvenWafelgroei.

Tantalum carbide (TAC) coating op een microscopische dwarsdoorsnede：

Fysieke eigenschappen van TAC -coOns：

TAC Coating Rotatie Susceptor -winkels: