TAC -coatingrotatieplaat

Vetek Semiconductor's TAC -coatingrotatieplaat heeft een hoge zuiverheidssamenstelling, een onzuiverheidsgehalte van minder dan 5 ppm en een dichte en uniforme structuur, die veel wordt gebruikt in LPE EPI -systemen, Aixtron Systems, Nuflare Systems, Tel CVD Systems, Veeco Systems, TSI Systems.

● Uitstekende mechanische eigenschappen:

Coating Hardheid tot 2300HV, met uitstekende slijtvastheid.

De hechting tussen de coating en het substraat is sterk, en het is niet eenvoudig om af te vallen of te pellen.

De coating kan nog steeds een goede structurele stabiliteit bij hoge temperatuur behouden.

●  Uitstekende corrosieweerstand:

TAC -materiaal zelf heeft een uitstekende chemische stabiliteit en corrosieweerstand.

De coatings van Vetek Semiconductor presteren goed in verschillende agressieve gasomgevingen.

Kan de interne componenten van de apparatuur effectief beschermen tegen corrosieschade.

● Hoge oppervlakteafwerking:

Vetek Semiconductor gebruikt een nauwkeurig coatingproces om de gewenste afwerking te produceren.

Lage oppervlakteruwheid helpt de accumulatie en afzetting van deeltjes te verminderen.

● Coating -consistentie is goed:

Vetek Semiconductor heeft een geluidskwaliteitscontrolesysteem om consistente prestaties tussen batches te garanderen.

De coatingdikte is gelijkmatig verdeeld en er zijn geen duidelijke lokale defecten.

● Uitstekende praktische applicatieprestaties:

De TAC-coating van Vetek Semiconductor wordt veel gebruikt in veel bekende fabrikanten van epitaxiale apparatuur in binnen- en buitenland.

Product Fysieke parameter van de TAC -gecoate rotatieplaat:

Tantalum carbide coating op een microscopische dwarsdoorsnede