Producten
Fysieke dampafzetting
  • Fysieke dampafzettingFysieke dampafzetting

Fysieke dampafzetting

Vetek halfgeleider Physical Vapour Deposition (PVD) is een geavanceerde procestechnologie die veel wordt gebruikt bij oppervlaktebehandeling en dunne-filmvoorbereiding. PVD-technologie maakt gebruik van fysieke methoden om materialen direct van vast of vloeibaar naar gas te transformeren en een dunne film op het oppervlak van het doelsubstraat te vormen. Deze technologie heeft de voordelen van hoge precisie, hoge uniformiteit en sterke hechting, en wordt veel gebruikt in halfgeleiders, optische apparaten, gereedschapscoatings en decoratieve coatings. Welkom om met ons te bespreken!

Vetek Semiconductor is een Chinese fabrikant die geavanceerde halfgeleidermaterialen levert in Physical Vapour Deposition Process-achtigeSic gecoat crucible, glazige koolstofsmeltkroes,Grafietverwarmers met SiC-coating, Elektronenstraalpistoolverdampingsmogelijkheden.


Basisprincipes van het PVD-proces


Fysieke dampafzettingsprocessen omvatten meestal een verscheidenheid aan specifieke methoden zoals verdamping, sputteren en ionenplaten. Ongeacht de gebruikte methode is het basisprincipe van fysieke dampafzetting om het materiaal van de bron te verdampen door verwarming op hoge temperatuur of ionenbombardement. Het verdampte materiaal beweegt in de vorm van atomen of moleculen in een vacuüm- of lagedrukomgeving en condenseert in een dunne film op het oppervlak van het substraat. Dit proces wordt voornamelijk bereikt door fysieke middelen, waardoor de invloed van chemische reacties op de zuiverheid van het materiaal wordt vermeden.


Voordelen van Physical Vapour Deposition-technologie


Hoge zuiverheid en hoge dichtheid: PVD-afgezette films hebben meestal een hoge zuiverheid en dichtheid, wat de prestaties van de coating aanzienlijk kan verbeteren, zoals slijtvastheid, corrosieweerstand en hardheid.

Sterke filmhechting: Het PVD -proces kan een film vormen met een sterke hechting op het substraat, zodat de film niet gemakkelijk is om af te pellen tijdens het gebruik, waardoor de levensduur van het product wordt verlengd.

Breed scala aan materiaalselectie: PVD-technologie kan worden toegepast op een verscheidenheid aan materialen, waaronder metalen, keramiek en legeringen, en kan verschillende functionele coatings voorbereiden, zoals geleidende, isolerende, hittebestendige en anti-oxidatie-coatings.

Milieubescherming en duurzaamheid: Vergeleken met processen zoals chemische dampafzetting (CVD), is het proces van fysieke dampafzetting (PVD) milieuvriendelijker, omvat het niet -genereren van schadelijke gassen en vermindert vervuiling tot het milieu.


Toepassing van PVD -technologie


Halfgeleiderindustrie: In de productie van halfgeleiders wordt fysieke dampafzetting vaak gebruikt bij de bereiding van dunne filmelektroden, diffusiebarrières en metaalverbindingen om ervoor te zorgen dat de componenten een goede geleidbaarheid en stabiliteit hebben.


pvd-process

Optische apparaten: Technologie van fysieke dampafzetting wordt veel gebruikt in optische coatings, zoals anti-reflecterende coatings voor spiegels en lenzen, en de productie van optische filters om de prestaties van optische apparaten te verbeteren.


physical-vapor-deposition-process


Hottags: Fysische dampafzetting
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept