Producten
CMP polijstslurry
  • CMP polijstslurryCMP polijstslurry

CMP polijstslurry

CMP-polijstslurry (chemische mechanische polijstslurry) is een hoog prestatiemateriaal dat wordt gebruikt bij de productie van halfgeleiders en de verwerking van precisiemateriaal. De kernfunctie is om een ​​fijne vlakheid en polijsten van het materiaaloppervlak te bereiken onder het synergetische effect van chemische corrosie en mechanisch slijpen om te voldoen aan de vlakheid en oppervlaktekwaliteitseisen op het nano -niveau. Ik kijk uit naar uw verdere consult.

De CMP -polijstslurry van Veteksemicon wordt voornamelijk gebruikt als een polijsten schuurmiddel in de CMP chemische mechanische polijstslurry voor het planeren van halfgeleidermaterialen. Het heeft de volgende voordelen:

De diameter en deeltjesassociatie graad van de deeltjes kan vrij worden geregeld;
De deeltjes zijn monodispersed en de deeltjesgrootteverdeling is uniform;
Het dispersiesysteem is stabiel;
De massaproductieschaal is groot en het verschil tussen batches is klein;
Het is niet gemakkelijk om te condenseren en te vestigen.


Prestatie-indicatoren voor producten voor ultrahoge purity-serie

Parameter
Eenheid
Prestatie-indicatoren voor producten voor ultrahoge purity-serie

Bisschop
Bisschop2
Bisschop3
Bisschop4
Bisschop-5
Bisschop6
Bisschop7
Gemiddelde silica -deeltjesgrootte
nm
35 ± 5
45 ± 5
65 ± 5
75 ± 5
85 ± 5
100 ± 5
120 ± 5
Nanodeeltjesgrootteverdeling (PDI)
1 <0,15
<0,15
<0,15
<0,15
<0,15
<0,15
<0,15
Oplossing pH
1 7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
Vaste inhoud
% 20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
Verschijning
-
Lichtblauw
Blauw
Wit
Gebroken wit
Gebroken wit
Gebroken wit
Gebroken wit
Deeltjesmorfologie x
X : S- ferisch ; b- gebogen ; p- peanut-vormig ; t- bolvormig ; c- kettingachtig (geaggregeerde toestand)
Stabiliserende ionen
Organische / anorganische amines
Samenstelling van grondstof y y
En : M-tmos ; e-you ; me-tamos+teos ; em-ezos+tmos
Inhoud van metalen onzuiverheid
≤ 300ppb


CMP Polishing Slurry Producttoepassingen:


● Geïntegreerde circuit ILD -materialen CMP

● Geïntegreerde circuit poly-Si-materialen CMP

● Semiconductor Single Crystal Silicon Wafer Materials CMP

● Semiconductor silicium carbide materialen CMP

● Integrated Circuit STI -materialen CMP

● Geïntegreerde circuitmetaal- en metalen barrièrelaagmaterialen CMP


Hottags: CMP polijstslurry
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept