CMP-polijstslurry

De CMP-polijstslurry van Veteksemicon wordt voornamelijk gebruikt als polijstschuurmiddel in de CMP chemisch-mechanische polijstslurry voor het planariseren van halfgeleidermaterialen. Het heeft de volgende voordelen:

Prestatie-indicatoren voor producten uit de Ultra-High Purity-serie

Prestatiespecificaties voor producten uit de High Purity-serie

Parameter	Eenheid	Prestatiespecificaties voor producten uit de High Purity-serie
		WGXY-1Z	WGXY-2Z	WGXY-3Z	WGXY-4Z	WGXY-5Z	WGXY-6Z	WGXY-7Z
Gemiddelde silicadeeltjesgrootte	nm	35±5	45±5	65±5	75±5	85±5	100±5	120±5
Grootteverdeling van nanodeeltjes (PDI)	1	<0,15	<0,15	<0,15	<0,15	<0,15	<0,15	<0,15
Oplossing pH	1	90,5 ± 0,2	9,5±0,2	9,5±0,2	9,5±0,2	9,5±0,2	9,5±0,2	9,5±0,2
Solide inhoud	%	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40
Verschijning	--	Lichtblauw	Blauw	Wit	Gebroken wit	Gebroken wit	Gebroken wit	Gebroken wit
Deeltjesmorfologie X	X: S-ferisch; B- Gebogen; P- Pindavormig; T- Bolvormig; C- Kettingachtig (geaggregeerde toestand)
Stabiliserende ionen	M: Organisch amine; K: Kaliumhydroxide; N: Natriumhydroxide; of andere componenten
Metaalverontreinigingsgehalte	Z: Zeer zuivere serie (H-serie≤1ppm; L-serie≤10ppm); Standaardserie (M-serie ≤300ppm)

CMP Polijstslurry Producttoepassingen:

● Geïntegreerde schakeling ILD-materialen CMP

● Geïntegreerde schakeling Poly-Si materialen CMP

● Halfgeleider monokristallijne siliciumwafelmaterialen CMP

● Halfgeleider siliciumcarbidematerialen CMP

● Geïntegreerde schakeling STI-materialen CMP

● Geïntegreerde schakeling metaal en metalen barrièrelaagmaterialen CMP