Zeer zuivere kwartsdiffusiebuis

De zeer zuivere kwartsdiffusiebuis van VeTek Semiconductor heeft de kenmerken van hoge zuiverheid, hoge hittebestendigheid, hoge corrosieweerstand en lage uitzettingscoëfficiënt. Deze eigenschappen zorgen ervoor dat de zeer zuivere kwartsdiffusiebuis bestand is tegen de omgeving van het oxidatie-gloeiproces van halfgeleiderwafels zonder vervorming of schade.

De zeer zuivere kwartsdiffusiebuis van VeTek Semiconductor heeft een zuiverheid van meer dan 99,998%, waardoor wordt gegarandeerd dat er geen verontreiniging van de wafer zal plaatsvinden tijdens het wafervoorbereidingsproces.

Toepassing van kwartsdiffusiebuis in halfgeleideroxidatiediffusieproces

De uitstekende thermische prestaties van onze zeer zuivere kwartsdiffusiebuis zijn erg belangrijk in het oxidatieproces. De zeer zuivere kwartsdiffusiebuis is bestand tegen temperaturen tot 1250 °C tijdens thermische oxidatie en uitgloeien, waardoor een soepele wafelverwerking wordt gegarandeerd. Bovendien zorgen de isolatie-eigenschappen en de hoge thermische weerstand van de zeer zuivere kwartsdiffusiebuis uiteindelijk voor de consistentie van de verwerking van de waferprijs.

De zeer zuivere kwartsdiffusiebuis van VeTek Semiconductor is ideaal voor wafelverwerking

Naast oxidatie is uitgloeien een ander belangrijk proces bij de productie van halfgeleiderwafels. Door de wafel tot een bepaalde temperatuur te verwarmen en deze gedurende een bepaalde periode met een gecontroleerde snelheid af te koelen, is het doel de microstructuur en prestaties van het materiaal te verbeteren. De sleutel tot dit proces is de nauwkeurige controle van de temperatuur: deze moet hoog genoeg zijn om de atomen te laten herschikken, maar niet te hoog om onomkeerbare schade te voorkomen. Door de verblijftijd kunnen de atomen in het materiaal bewegen en herschikken, wat helpt roosterdefecten te elimineren, de korrelgrootte te vergroten, enz. De afkoelfase van het uitgloeiproces is ook zeer kritisch en de afkoelsnelheid kan de uiteindelijke kristalstructuur aanzienlijk beïnvloeden. en prestaties.

VeTek Semiconductor High Purity Quartz Diffusion Tube biedt de vereiste thermische stabiliteit voor het uitgloeiproces, waardoor de wafer gelijkmatig kan uitgloeien. Tegelijkertijd zorgt de uitstekende thermische schokbestendigheid van de High Purity Quartz Diffusion Tube voor stabiliteit in de snelle verwarmings- en koelcycli tijdens het gloeiproces van de wafer, zodat de levensduur en betrouwbaarheid tijdens het gloeiproces gegarandeerd zijn.

Naast de bovengenoemde voordelen heeft VeTek Semiconductor High Purity Quartz Diffusion Tube ook een hoge UV-transparantie. Het kan worden gebruikt om het waferverwerkingsproces te monitoren en te inspecteren via UV-licht, waardoor de betrouwbaarheid van het uiteindelijke halfgeleiderapparaat wordt verbeterd.

De feitelijke vereisten van verschillende halfgeleiderprocessen zijn verschillend. Om aan deze uiteenlopende behoeften te voldoen, streven we er altijd naar om klanten te voorzien van zeer op maat gemaakte kwartsdiffusiebuisproducten met hoge zuiverheid om te voldoen aan de gebruiksscenario-eisen van de eindgebruiker. Onze klantaanpassingsdiensten omvatten verschillende structuren van High Purity Quartz Diffusion Tube zelf, verschillende flenzen en andere configuraties. Of het nu gaat om kleinschalige R&D of grootschalige massaproductie, wij zijn competent. Ik kijk uit naar uw aanvraag en ga een langdurige samenwerking met u aan.

VeTek Semiconductor-productiewinkel：