Glazige koolstof Crucible

1. Materiaalkenmerken: niet-gerafetiseerde glasachtige koolstof, prestaties overtreffen traditionele materialen in alle aspecten

Veteksemicon's glazige koolstof Crucible neemt geavanceerde sinteringtechnologie op hoge temperatuur aan, en de polymeervoorloper wordt verwerkt bij 3000 ° C in een inerte gasomgeving. Het heeft zowel de dichtheid van glas als de weerstand van keramiek op hoge temperatuur.De kernvoordelen omvatten:

✔ Ultrahoge zuiverheid: Het onzuiverheidsgehalte is minder dan 2 ppm (zoals metaalonzuiverheden zoals aluminium en ijzer), die voldoet aan de behoeften van materialen voor halfgeleider.

✔ Extreme temperatuurweerstand: Het kan stabiel worden gebruikt tot 3000 ° C in vacuüm of inert gas, en de sterkte neemt toe met de temperatuurstijging (de sterkte bij 2400 ° C is tweemaal die van normale temperatuur).

✔ Nul porositeit en anti-permeabiliteit: Er zijn geen open poriën en de gaspermeabiliteitscoëfficiënt is zo laag als 10⁻⁹ cm²/s, die oxidatie of verontreiniging van gesmolten metaal kunnen voorkomen.

✔ Uitstekende elektrische en thermische geleidbaarheid: thermische geleidbaarheid 6,3 w/(m · k), weerstand 45 uΩ · m, geschikt voor hoogfrequent inductieverwarmingsproces.

✔ Chemische corrosieweerstand: resistent tegen sterk zuur, sterke alkali en gesmolten zoutcorrosie, geen deeltjesafval, voor de netheid van de productie van halfgeleiders.

2. Core Application Scenario's in halfgeleiderverwerking

De glasachtige koolstofboelbare producten van Veteksemicon bestrijken de belangrijkste banden van het hele proces in de productie van halfgeleiders, meestal inclusief:

1) Siliconengroei met enkele kristal:

Isolerende coating gebruikt voor SIC -kristalgroei -oven, het verbeteren van de stabiliteit van de thermische veld en het verminderen van het energieverbruik met 20%.

Hoge zuiverheidskenmerken vermijden siliciumsmeltverontreiniging en verminderen roosterdefecten.

2) Ionimplantatie en etsproces:

Als een elektrode- en gasdiffuser voor plasma -etsensysteem, zorgt het voor uniforme ontlading en procesconsistentie.

Anti-ionbombardementkenmerken verlengen de levensduur van de apparatuur.

3) Metallisatie en legeringsmeltende:

Ideale container voor gesmolten goud-, palladium- en titaniumlegeringen, niet-gevlekte oppervlak vermindert het materiaalverlies.

Geschikt voor de zuivering en het vormen van zeer actieve zeldzame metalen (zoals gallium en indium).

Waarschuwing: Glazen koolstofbizi's kunnen niet worden gebruikt om chroom-cobalt-molybdeenlegeringen te smelten. Evenzo kunnen ze niet worden gebruikt om gemakkelijk carbide te smelten, zoals silicium of wolfraam.

4) Geavanceerde verpakkingen en testen:

Als een waferoverdrachtdrager (dummy-wafer) en warmtefreflector, zorgt het voor de stabiliteit van processen op hoge temperatuur.

3. Enterprise productiesterkte: grootschalige productie en technologische innovatie

Als de toonaangevende leverancier van koolstofarme grondstoffen van China heeft Veteksemicon de volgende kernvoordelen:

✔ Full-process onafhankelijke productie

Van grondstofpolymerisatie tot sinteren op hoge temperatuur, het hele proces is beheersbaar om de consistentie van de batch te garanderen.

Massaproductiecapaciteit omvat ultra-dunne coatings op 5μm-niveau tot grote smeltkroezen (zoals diameter 132 mm, hoogte 273 mm-specificaties).

✔ Aangepaste verwerkingsmogelijkheden

Ondersteunt niet-standaard maataanpassing (zoals speciaal gevormde smeltkroes, buizen, films), met een tolerantie nauwkeurigheid van ± 0,2 mm.

✔ Technology R & D -reserves

Samenwerken met wetenschappelijke onderzoeksinstellingen van de Chinese Academie van Wetenschappen om nano -glazige koolstof (sterkte tot 3GPA) te ontwikkelen en de toepassing van geminiaturiseerde halfgeleiderapparatuur uit te breiden.

Leg opkomende velden zoals bipolaire platen van brandstofcellen en ruimtelijke staartmondstukken uit om grensoverschrijdende innovatie van materialen te bevorderen.