Producten
Tantaalcarbide (TaC) gecoat poreus grafiet voor SiC-kristalgroei
  • Tantaalcarbide (TaC) gecoat poreus grafiet voor SiC-kristalgroeiTantaalcarbide (TaC) gecoat poreus grafiet voor SiC-kristalgroei

Tantaalcarbide (TaC) gecoat poreus grafiet voor SiC-kristalgroei

VeTek Semiconductor Tantaalcarbide gecoat poreus grafiet is de nieuwste innovatie op het gebied van siliciumcarbide (SiC) kristalgroeitechnologie. Dit geavanceerde composietmateriaal is ontworpen voor hoogwaardige thermische velden en biedt een superieure oplossing voor dampfasebeheer en defectcontrole in het PVT-proces (Physical Vapor Transport).

VeTek Semiconductor Tantaalcarbide gecoat poreus grafiet is ontworpen om de SiC-kristalgroeiomgeving te optimaliseren via vier technische kernfuncties:


Dampcomponentfiltratie: De precieze poreuze structuur fungeert als een zeer zuiver filter, waardoor alleen de gewenste dampfasen bijdragen aan de kristalvorming, waardoor de algehele zuiverheid wordt verbeterd.

Precisie temperatuurregeling: De TaC-coating verbetert de thermische stabiliteit en geleidbaarheid, waardoor nauwkeurigere aanpassingen van lokale temperatuurgradiënten en betere controle over de groeisnelheid mogelijk zijn.

Begeleide stroomrichting: Het structurele ontwerp maakt een geleide stroom van stoffen mogelijk, waardoor materialen precies daar worden afgeleverd waar ze nodig zijn om een ​​uniforme groei te bevorderen.

Effectieve lekkagecontrole: Ons product biedt uitstekende afdichtingseigenschappen om de integriteit en stabiliteit van de groeiatmosfeer te behouden.


Fysische eigenschappen van TaC-coating

Fysische eigenschappen van TaC-coating
TaC-coatingdichtheid
14,3 (g/cm³)
Specifieke emissiviteit
0.3
Thermische uitzettingscoëfficiënt
6.3*10-6/K
TaC-coatinghardheid (HK)
2000 Hongkong
Weerstand
1×10-5Ohm*cm
Thermische stabiliteit
<2500℃
Grafietgrootte verandert
-10~-20um
Dikte van de coating
≥20um typische waarde (35um±10um)

Vergelijking met traditioneel grafiet

Vergelijkingsitem
Traditioneel poreus grafiet
Poreus tantaalcarbide (TaC)
Si-omgeving op hoge temperatuur
Gevoelig voor corrosie en verlies
Stabiel, bijna geen reactie
Controle van koolstofdeeltjes
Kan een bron van vervuiling worden
Zeer efficiënte filtratie, geen stof
Levensduur
Kortom, vereist frequente vervanging
Aanzienlijk verlengde onderhoudscyclus

Tantaalcarbide (TaC) coating op een microscopische dwarsdoorsnede

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section


Impact van toepassingen: minimalisering van defecten in het PVT-proces

Optimizing SiC Crystal Quality


In het PVT-proces (Physical Vapor Transport) lost het vervangen van conventioneel grafiet door VeTek's TaC Coated Porous Graphite direct de veel voorkomende defecten op die in het diagram worden weergegeven:


Ehet beperken van koolstofinsluitingen: Door te fungeren als een barrière tegen vaste deeltjes, elimineert het effectief koolstofinsluitsels en vermindert het de micropipes die gebruikelijk zijn in traditionele smeltkroezen.

Behoud van structurele integriteit: Het voorkomt de vorming van etsputten en microtubuli tijdens de lange-cyclische groei van SiC-monokristallen.

Hogere opbrengst en kwaliteit: Vergeleken met traditionele materialen zorgen de met TaC gecoate componenten voor een schonere groeiomgeving, wat resulteert in een aanzienlijk hogere kristalkwaliteit en productieopbrengst.




Hottags: Tantaalcarbide (TaC) gecoat poreus grafiet voor SiC-kristalgroei
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies. Privacybeleid
Afwijzen Accepteren