Nieuws

Nieuws

Wij delen graag met u de resultaten van ons werk, bedrijfsnieuws en geven u actuele ontwikkelingen en personeelsaanstellings- en verwijderingsvoorwaarden.
Hoe verbetert TAC -coating de levensduur van grafietcomponenten? - Vetek halfgeleider22 2024-11

Hoe verbetert TAC -coating de levensduur van grafietcomponenten? - Vetek halfgeleider

Tantaalcarbide (TaC)-coating kan de levensduur van grafietonderdelen aanzienlijk verlengen door de weerstand tegen hoge temperaturen, corrosieweerstand, mechanische eigenschappen en thermische beheermogelijkheden te verbeteren. De hoge zuiverheidseigenschappen verminderen de verontreiniging door onzuiverheden, verbeteren de kwaliteit van de kristalgroei en verbeteren de energie-efficiëntie. Het is geschikt voor halfgeleiderproductie en kristalgroeitoepassingen in omgevingen met hoge temperaturen en zeer corrosieve omstandigheden.
Wat is de specifieke toepassing van TAC -gecoate onderdelen in het halfgeleidingsveld?22 2024-11

Wat is de specifieke toepassing van TAC -gecoate onderdelen in het halfgeleidingsveld?

Tantalum carbide (TAC) coatings worden op grote schaal gebruikt in het halfgeleidingsveld, voornamelijk voor epitaxiale groeiereactorcomponenten, single crystal groei sleutelcomponenten, industriële componenten met hoge temperatuur, industriële componenten, MOCVD-systeemverwarming en wafeldrager.
Waarom mislukt SiC -gecoate grafiet susceptor? - Vetek halfgeleider21 2024-11

Waarom mislukt SiC -gecoate grafiet susceptor? - Vetek halfgeleider

Tijdens het SiC -epitaxiale groeiproces kan het mislukking van SiC -gecoate grafietophanging optreden. Dit artikel voert een rigoureuze analyse uit van het faalfenomeen van SiC -gecoate grafiet suspensie, die voornamelijk twee factoren omvat: SIC epitaxiale gasfalen en SIC -coatingfalen.
Wat zijn de verschillen tussen MBE- en MOCVD-technologieën?19 2024-11

Wat zijn de verschillen tussen MBE- en MOCVD-technologieën?

Dit artikel bespreekt voornamelijk de respectieve procesvoordelen en verschillen tussen het Molecular Beam Epitaxy-proces en metaal-organische chemische dampdepositietechnologieën.
Poreus tantaalcarbide: een nieuwe generatie materialen voor SiC-kristalgroei18 2024-11

Poreus tantaalcarbide: een nieuwe generatie materialen voor SiC-kristalgroei

Het poreuze tantalumcarbide van Vetek Semiconductor, als een nieuwe generatie SIC -kristalgroeimateriaal, heeft veel uitstekende producteigenschappen en speelt een sleutelrol in een verscheidenheid aan technologieën voor het verwerken van halfgeleiders.
Wat is een EPI epitaxiale oven? - VeTek-halfgeleider14 2024-11

Wat is een EPI epitaxiale oven? - VeTek-halfgeleider

Het werkingsprincipe van de epitaxiale oven is om halfgeleidermaterialen op een substraat onder hoge temperatuur en hoge druk af te zetten. Silicium epitaxiale groei is om een ​​laag kristal te laten groeien met dezelfde kristaloriëntatie als het substraat en verschillende dikte op een silicium enkel kristallen substraat met een bepaalde kristaloriëntatie. Dit artikel introduceert voornamelijk de siliciumepitaxiale groeimethoden: epitaxie van dampfase en epitaxie van vloeibare fase.
X
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies. Privacybeleid
Afwijzen Accepteren