Aluminiumnitride (AlN) keramische elektrostatische boorkop

1.Voordelen

• Zeer zuiver AlN-keramiek met thermische geleidbaarheid tot ~180 W/m·K voor efficiënte warmteoverdracht en temperatuuruniformiteit

• Sterke elektrische isolatie en hoge volumeweerstand ondersteunen stabiele klemming bij 1–3 kV (hogere spanningen beschikbaar)

• Aangepaste diëlektrische laagmaterialen en elektrode-indelingen: Coulomb of Johnsen – Rahbek (JR); enkele of meerdere zones

• Snelle klem- en ontklemprestaties, doorgaans minder dan 0,1 seconde

• Microstructuren in het oppervlak met een diameter tot ~300 μm, waardoor het contactoppervlak wordt teruggebracht tot slechts ~1%

• Hoog vlakheidsvermogen; typische globale vlakheid in de orde van 0,5–3 μm PV voor platforms van 300 mm-klasse

• Dichte microstructuur met vrijwel geen waterabsorptie en goede chemische bestendigheid voor procesomgevingen

2.Typische toepassingen

Keramische elektrostatische klauwplaten van aluminiumnitride worden gebruikt in processtappen die zowel het veilig vasthouden van de wafer als gecontroleerd thermisch gedrag vereisen:

• Droog plasma-etsen (ICP / RIE) en gerelateerde kamerprocessen

• CVD-, PEALD-, thermische ALD- en andere fasen voor dunnefilmafzetting

• Gloei- en thermische procesmodules die een uniforme wafertemperatuur vereisen

• Inspectie-, metrologie- en precisiefasen waarbij een laag deeltjesgehalte en stabiele klemming van cruciaal belang zijn

3.AlN-materiaalkwaliteiten – Typische eigenschappen

VeTek biedt meerdere aluminiumnitridekwaliteiten om de thermische geleidbaarheid, mechanische sterkte en kosten voor ESC-ontwerpen in evenwicht te brengen:

Eenheden: Warmtegeleidingsvermogen in W/(m·K); diëlektrische sterkte in kV/mm; volumeweerstand in Ω·cm (25 °C); diëlektrische constante bij 1 MHz. Waarden zijn typisch en kunnen variëren afhankelijk van proces- en onderdeelgeometrie.

4.Typische ESC-ontwerpparameters

5.Waarom Choose VeTek AlN elektrostatische klauwplaten?

VeTek Semiconductor integreert geavanceerde AlN-keramiek met nauwkeurige ESC-productie voor halfgeleiderklanten die zowel thermische prestaties als betrouwbare klemming nodig hebben:

• Meerdere AlN-kwaliteiten met thermische geleidbaarheid van ~90 tot ~180 W/m·K om te voldoen aan de thermische budgetten van het proces

• Flexibel elektrode- en diëlektrisch ontwerp voor Coulomb- of JR-klemgedrag

• Strakke controle van vlakheid, microstructuur van het oppervlak en elektrische isolatieprestaties

• Volledige levenscyclusondersteuning: ontwerp, nieuwbouw en renovatie op meerdere niveaus

Voor ets-, depositie- en thermische gereedschappen die afhankelijk zijn van een uniforme wafertemperatuur en schone, herhaalbare klemming, bieden VeTek aluminiumnitride keramische elektrostatische klauwplaten een krachtig keramisch platform ondersteund door toepassingsgerichte technische ondersteuning.