Producten
Silicium voetstuk
  • Silicium voetstukSilicium voetstuk
  • Silicium voetstukSilicium voetstuk

Silicium voetstuk

Vetek Semiconductor Silicon Sedestal is een belangrijk onderdeel van de diffusie- en oxidatieprocessen van halfgeleiders. Als een speciaal platform voor het vervoeren van siliciumboten in ovens van hoge temperatuur, heeft het siliciumvoetstuk veel unieke voordelen, waaronder verbeterde temperatuuruniformiteit, geoptimaliseerde wafelkwaliteit en verbeterde prestaties van halfgeleiderapparaten. Neem voor meer productinformatie contact met ons op.

De silicium susceptor van VeTek Semiconductor is een puur siliciumproduct dat is ontworpen om temperatuurstabiliteit in de thermische reactorbuis te garanderen tijdens de verwerking van siliciumwafels, waardoor de thermische isolatie-efficiëntie wordt verbeterd. De verwerking van siliciumwafels is een uiterst nauwkeurig proces en de temperatuur speelt een cruciale rol, die rechtstreeks van invloed is op de dikte en uniformiteit van de siliciumwafelfilm.


Het siliciumvoetstuk bevindt zich in het onderste deel van de thermische reactorbuis van de oven, die het silicium ondersteuntwafel dragerterwijl het een effectieve thermische isolatie biedt. Aan het einde van het proces koelt het samen met de siliciumwafeldrager geleidelijk af tot omgevingstemperatuur.


Kernfuncties en voordelen van VeTek Semiconductor silicium voetstukken:

Stabiele ondersteuning bieden om de procesnauwkeurigheid te waarborgen

Het siliciumvoetstuk biedt een stabiel en zeer warmtebestendig ondersteuningsplatform voor de siliciumboot in de hoge temperatuurovenkamer. Deze stabiliteit kan effectief voorkomen dat de siliciumboot tijdens de verwerking verschuift of kantelt, waardoor de uniformiteit van de luchtstroom wordt beïnvloed of temperatuurverdeling wordt vernietigd, waardoor een hoge precisie en consistentie van het proces wordt gewaarborgd.


Verbeter de temperatuuruniformiteit in de oven en verbeter de wafelkwaliteit

Door de siliciumboot te isoleren van direct contact met de bodem of wand van de oven, kan de siliciumbasis het warmteverlies veroorzaakt door geleiding verminderen, waardoor een meer uniforme temperatuurverdeling in de thermische reactiebuis wordt bereikt. Deze uniforme thermische omgeving is essentieel om uniformiteit van waferdiffusie en oxidelaag te bereiken, waardoor de algehele kwaliteit van de wafer aanzienlijk wordt verbeterd.


Optimaliseer de thermische isolatieprestaties en verminder het energieverbruik

De uitstekende thermische isolatie -eigenschappen van het siliciumbasismateriaal helpen het warmteverlies in de ovenkamer te verminderen, waardoor de energie -efficiëntie van het proces aanzienlijk wordt verbeterd. Dit efficiënte thermische managementmechanisme versnelt niet alleen de cyclus van verwarming en koeling, maar vermindert ook het energieverbruik en de bedrijfskosten, waardoor een meer economische oplossing biedt voor de productie van halfgeleiders.


Specificaties van Vetek Semiconductor Siliconen voetstuk


Productstructuur
Geïntegreerd, Lassen
Geleidende soort/doping
Aangepast
Weerstand
Lage weerstand (bijv. <0,015, <0,02 ...)
Matige weerstand (bijv. 1-4)
Hoge weerstand (bijv. 60-90)
Klantaanpassing
Materiaaltype
Polykristal/enkel kristal
Kristaloriëntatie
Aangepast


Vergelijk Semiconductor Silicon Pedestal Production Shops

Graphite epitaxial substrateSemiconductor EquipmentGraphite ring assemblySemiconductor process equipment


Hottags: Silicium voetstuk
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept