Quartz gasdistributieplaat

Quartz -gasverdelingsplaten, ook bekend als kwartsdouchekoppen, zijn kritieke componenten in de fabricage van halfgeleiders. Door gebruik te maken van de uitzonderlijke zuiverheid, weerstand op hoge temperatuur en corrosieweerstand van kwarts, zorgen deze platen voor een uniforme en stabiele stroom van procesgassen op het wafeloppervlak. Deze precieze levering is essentieel voor het handhaven van de kwaliteit en uniformiteit van afgezette films of geëtste functies.

Belangrijkste kenmerken van hoogzuivere gesmolten kwarts

● Materiaal: 99,99%hoge zuivere gesmolten kwarts

● Weerstand op hoge temperatuur: Bestand tegen temperaturen boven 1000 ℃

● Corrosieweerstand: Uitstekende duurzaamheid tegen procesgassen en plasma -omgevingen

● Precisiegasstroom: Uniforme micro-gatverdeling voor optimale gasafgifte en depositie-uniformiteit

● aanpasbaar ontwerp: Grootte, gatpatroon en montagefuncties kunnen worden aangepast voor specifieke apparatuurmodellen

Kernrollen in de productie van halfgeleiders

1. Fysieke dampafzetting (PVD) & chemische dampafzetting (CVD)

Rol: In PVD- en CVD -processen regisseert de gasverdelingsplaat precies reactieve gassen (bijv. Silaan, ammoniak, zuurstof) of voorlopers op de wafel om een ​​gewenste dunne film te vormen.

Specifiek gebruik:

● Uniformiteitsregeling: de nauwkeurig gemanipuleerde micro-gaten van de plaat zorgen ervoor dat de gasstroom en concentratie uniform zijn over het gehele wafeloppervlak. Dit is van vitaal belang voor het afzetten van films met consistente dikte en prestaties.

● Verontreinigingspreventie: de hoge zuiverheid van kwarts voorkomt dat de plaat reageert met procesgassen of het vrijgeven van onzuiverheden. Dit handhaaft de zuiverheid van de film en voorkomt gebreken op het wafeloppervlak.

2. Plasma-verbeterde chemische dampafzetting (PECVD)

Rol: In PECVD levert de Quartz -douchekop niet alleen reactieve gassen, maar functioneert ook als een elektrode voor het genereren van plasma.

Specifiek gebruik:

● Plasma-ontsteking: de douchekop is meestal verbonden met een radiofrequentie (RF) stroombron om een ​​plasma te genereren. Hoge energie-deeltjes in het plasma bevorderen de ontleding van gasvormige reactanten, waardoor filmafzetting bij lagere temperaturen mogelijk is.

● Thermische stabiliteit: kwarts vertoont een uitstekende thermische stabiliteit, waardoor het de plasma-omgeving op de hoge temperatuur kan weerstaan. Dit helpt bij het handhaven van een uniforme temperatuur in de proceskamer, waardoor de filmkwaliteit en consistentie verder worden gewaarborgd.

3. Droog etsen

Rol: Bij droge etsen introduceert de gasverdelingsplaat reactieve etsgassen (bijv. Fluorocoolwaterstoffen, chloor) in de etskamer.

Specifiek gebruik:

● Etchuniformiteit: de plaat zorgt voor een uniforme stroom en concentratie van etsengassen, die consistente etsdiepte en profiel over de gehele wafer garanderen. Dit is cruciaal voor het bereiken van de precieze patronen die nodig zijn voor geavanceerde halfgeleiderapparaten.

● Corrosieweerstand: de sterke corrosieve eigenschappen van etsengassen vereisen een duurzaam materiaal. Quartz's hoge corrosieweerstand verlengt de levensduur van de douchekop en vermindert het risico op procesonderbrekingen.

4. Wafelreiniging

Rol: In specifieke wafelreinigingsprocessen wordt een kwartgasverdelingsplaat gebruikt om reinigingsgassen (bijvoorbeeld ozon, ammoniak) uniform aan het wafeloppervlak te leveren om residuen of verontreinigingen te verwijderen.

Specifiek gebruik:

● Consistente reiniging: de plaat zorgt ervoor dat het reinigen van gassen elk deel van de wafel bereikt, waardoor een grondig en uniform reinigingsproces mogelijk wordt.

● Chemische compatibiliteit: Quartz's compatibiliteit met een breed scala aan schoonmaakchemicaliën voorkomt reacties en handhaaft de zuiverheid en effectiviteit van het reinigingsproces.