Producten
Hoge zuiverheidsgrafietring

Hoge zuiverheidsgrafietring

Grafietring met hoge zuiverheid is geschikt voor GAN -epitaxiale groeiprocessen. Hun uitstekende stabiliteit en superieure prestaties hebben ze veel gebruikt. Vetek Semiconductor produceert en produceert wereld toonaangevende grafietring met hoge zuiverheid om de GAN-epitaxie-industrie te helpen vorderen. Veteksemi kijkt ernaar uit om uw partner in China te worden.


Simple diagram of GaN epitaxial growthHet proces vanGan EpitaxiaalGroei wordt uitgevoerd in een corrosieve omgeving op hoge temperatuur. De hete zone van de GAN-epitaxiale groei-oven is meestal uitgerust met warmtebestendige en corrosiebestendige grafietonderdelen met hoge zuiverheid, zoals kachels, smeltkroes, grafietelektroden, smeltkroes, elektrodemoeren, enz. Grafietringafdichting is een van de belangrijke onderdelen.


Vetek Semiconductor's hoogzuiver grafietring is gemaakt van puur grafiet met een extreem hoge zuiverheid, en het asgehalte van het eindproduct kan <5 ppm zijn.

En de grafietringen hebben de kenmerken van weerstand op hoge temperatuur en corrosieweerstand, goede elektrische en thermische geleidbaarheid, chemische stabiliteit en thermische schokweerstand, waardoor ze geschikt zijn voor gebruik in GAN -epitaxiale groeivaven.


Vetek Semiconductor's High-zuiver grafietringen zijn gemaakt van de hoogste kwaliteit grafiet, met stabiele prestaties en een lange levensduur. Als u GAN-epitaxiale groei moet uitvoeren, zijn onze grafietringen met hoge zuiverheid de beste keuze van grafietonderdelen.


Vetek Semiconductor kan klanten zeer aangepaste producten bieden, of het nu de grootte of het materiaal van de ring is, het kan voldoen aan de verschillende vereisten van klanten. Wij wachten op elk moment op uw consult.


Materiaalgegevens van SGL 6510 grafiet


Typische eigenschappen
Eenheden
Testnormen
Waarden
Gemiddelde korrelgrootte
μm
ISO 13320
10
Bulkdichtheid
g/cm3
Van IEC 60413/204
1.83
Open porositeit
Vol.%
Van 66133
10
Middellange porie -ingangdiameter
μm
Van 66133
1.8
Permeabiliteitscoëfficiënt (omgevingstemperatuur)
cm2/S
Van 51935
0.06
Rockwell Hardheid HR5/100
 \ Van IEC 60413/303
90
Weerstand
μωm
Van IEC 60413/402
13
Buigsterkte
MPA
Van IEC 60413/501
60
Compressieve sterkte
MPA
Van 51910
130
Dynamische modulus van elasticit
MPA
Van 51915
11,5 x 103
Thermische expansie (20-200 ℃)
K-1
Van 51909
4.2x10-6
Thermische geleidbaarheid(20 ℃)
WM-1K-1
Van 51908
105
Asinhoud
ppm
Van 51903
\

Vetek Semiconductor High Purity Graphite Ring Productwinkels:


Graphite EPI SusceptorVetek Semiconductor High purity graphite ring testSemiconductor ceramics technologySemiconductor Equipment


Hottags: Hoge zuiverheidsgrafietring
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept