Waferboot met hoge zuiverheid CVD SiC-coating

1. Kernprestatiefactoren?

• Zuiverheid op het 7N-niveau:Wij hanteren een zuiverheidsnorm van 99,99999% (7N). Dit is niet onderhandelbaar om te voorkomen dat metaalverontreinigingen in de wafer migreren tijdens lange indrijf- of oxidatiestappen.
• De CVD-afdichting (50–300 μm):We "verven" niet alleen het oppervlak. Onze CVD SiC-laag van 50–300 μm zorgt voor een totale afdichting over het substraat. Dit elimineert porositeit, wat betekent dat de boot geen chemicaliën vasthoudt of deeltjes afstoot, zelfs na herhaalde blootstelling aan reactieve gassen of agressieve SPM/DHF-reiniging.
• Thermische stijfheid:De natuurlijke lage thermische uitzetting van siliciumcarbide houdt deze boten recht. Ze buigen of draaien niet tijdens Rapid Thermal Annealing (RTA), waardoor de robotarm altijd de juiste sleuf raakt zonder vast te lopen.
• Aanhoudende opbrengsten:Het oppervlak is ontworpen voor een lage adhesie van bijproducten. Minder opbouw betekent dat er minder deeltjes op uw wafels terechtkomen en dat er meer runs plaatsvinden tussen de reinigingscycli op de natte bank.
• Aangepaste geometrie:Elke fabriek heeft zijn eigen opzet. Wij bewerken deze volgens uw specifieke steek- en sleuftekeningen, of u nu een horizontale oven of een verticale geautomatiseerde lijn van 300 mm gebruikt.

2. Procescompatibiliteit

• Sfeer:Bestand tegen TMGa-, AsH₃- en O₂-omgevingen met hoge concentraties.
• Thermisch bereik:Stabiele werking op lange termijn tot 1400°C.
• Materialen:Specifiek ontworpen voor oxidatie- en diffusieprocessen van logische, stroom- en analoge wafers.